[发明专利]沸石膜结构体在审

专利信息
申请号: 201680013539.8 申请日: 2016-03-22
公开(公告)号: CN107427783A 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 木下直人;柴田宏之 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: B01D71/02 分类号: B01D71/02;B01D69/10;B01D69/12;B32B19/04;C01B37/02
代理公司: 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙)11432 代理人: 王轶,郑雪娜
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 膜结构
【说明书】:

技术领域

本发明涉及具备沸石膜的沸石膜结构体。

背景技术

具备形成在支撑体上的沸石膜的陶瓷过滤器与高分子膜相比,机械强度优异,因此,适合从液体混合物、气体混合物中分离或浓缩出所期望的成分(例如参见专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:国际公开第2013/054794号说明书

发明内容

但是,在沸石膜的耐久性提高方面仍留有余地。

本发明是鉴于上述状况而实施的,其目的是提供一种能够提高耐久性的沸石膜结构体。

本发明所涉及的沸石膜结构体包括支撑体、沸石膜以及保护膜。沸石膜形成在支撑体的表面上。保护膜形成在沸石膜的表面上。保护膜由有机无机杂化二氧化硅或碳构成。

根据本发明,能够提供一种可以提高耐久性的沸石膜结构体。

附图说明

图1是沸石膜结构体的截面图。

具体实施方式

以下,参照附图,对本发明的实施方式进行说明。以下的附图的记载中,对相同或类似的部分赋予相同或类似的符号。但是,附图是示意图,各尺寸的比率等有时与实际上的尺寸比率不同。因此,具体的尺寸等应当参考以下的说明进行判断。另外,当然附图相互间还包含彼此的尺寸关系、比率不同的部分。

(分离膜结构体10的构成)

图1是表示分离膜结构体10的构成的截面图。分离膜结构体10包括:支撑体20、沸石膜30以及保护膜40。

支撑体20对沸石膜30进行支撑。支撑体20具有能够将沸石膜30形成(晶化、涂布、或者析出)为膜状的化学稳定性。支撑体20只要为能够将作为分离对象的混合流体供给到沸石膜30的形状即可。作为支撑体20的形状,例如可以举出:蜂窝状、整体状、平板状、管状、圆筒状、圆柱状、以及棱柱状等。

本实施方式中,支撑体20具有基体21、中间层22以及表层23。

基体21由多孔质材料构成。作为多孔质材料,例如可以使用陶瓷烧结体、金属、有机高分子、玻璃、或者碳等。作为陶瓷烧结体,可以举出:氧化铝、二氧化硅、多铝红柱石、氧化锆、二氧化钛、三氧化二钇、氮化硅、碳化硅等。作为金属,可以举出:铝、铁、青铜、银、不锈钢等。作为有机高分子,可以举出:聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、聚砜、聚酰亚胺等。

基体21可以包含无机粘结剂。作为无机粘结剂,可以使用二氧化钛、多铝红柱石、易烧结性氧化铝、二氧化硅、玻璃料、粘土矿物、易烧结性堇青石中的至少一种。

基体21的平均细孔径例如可以为5μm~25μm。可以通过水银孔度计来测定基体21的平均细孔径。基体21的气孔率例如可以为25%~50%。构成基体21的多孔质材料的平均粒径例如可以为5μm~100μm。基体21的平均粒径是对通过使用SEM(扫描型电子显微镜)观察截面微结构而测定得到的30个测定对象粒子的最大直径进行算术平均而得到的值。

中间层22形成在基体21的表面21S上。中间层22可以由能够用于基体21的上述多孔质材料构成。中间层22的平均细孔径可以比基体21的平均细孔径小,例如可以为0.005μm~2μm。可以通过细孔径分布测定器来测定中间层22的平均细孔径。中间层22的气孔率例如可以为20%~60%。中间层22的平均厚度例如可以为30μm~300μm。

表层23形成在中间层22的表面22S上。表层23可以由能够用于基体21的上述多孔质材料构成。表层23的平均细孔径可以比中间层22的平均细孔径小,例如可以为0.001μm~0.5μm。可以通过细孔径分布测定器来测定表层23的平均细孔径。表层23的气孔率例如可以为20%~60%。表层23的平均厚度例如可以为1μm~50μm。

表层23具有与沸石膜30相接触的表面23S。表面23S为支撑体20的最外表面。表面23S的表面粗糙度Ra优选为2.13μm以下。表面23S的表面粗糙度Ra优选为0.29μm以上。可以由通过SEM取得的25μm长的截面曲线利用依据JIS B 0601的方法来测定表面23S的表面粗糙度Ra。

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