[发明专利]感光性树脂组合物及电子部件在审

专利信息
申请号: 201680013754.8 申请日: 2016-02-29
公开(公告)号: CN107407876A 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 小山祐太朗;奥田良治;增田有希;北村友弘;荘司优 申请(专利权)人: 东丽株式会社
主分类号: G03F7/023 分类号: G03F7/023;C08G73/10;G03F7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所11256 代理人: 杨宏军,焦成美
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 感光性 树脂 组合 电子 部件
【权利要求书】:

1.感光性树脂组合物,其含有树脂,所述树脂的特征在于,具有通式(1)及/或(2)表示的结构,并且,

(a)含有10~80摩尔%具有脂环结构的碳原子数为4~40的有机基团作为通式(1)及(2)的R1

(b)含有10~80摩尔%具有聚醚结构的碳原子数为20~100的有机基团作为通式(1)及(2)的R2

[化学式1]

通式(1)及(2)中,R1表示具有单环式或稠合多环式的脂环结构的碳原子数为4~40的四价有机基团;R2表示具有聚醚结构的碳原子数为20~100的二价有机基团;R3表示氢或碳原子数为1~20的有机基团;n1、n2各自表示10~100,000的范围,p、q表示满足0≤p+q≤6的整数。

2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于,具有所述通式(1)及/或(2)表示的结构的树脂中,R1含有选自通式(3)~(6)中的1个以上的有机基团,

[化学式2]

通式(3)~(6)中,R4~R50各自独立地表示氢原子、卤素原子或碳原子数为1~3的一价有机基团;其中,碳原子数为1~3的一价有机基团的碳原子数以使得所述R1的碳原子数在4~40的范围内的方式进行选择;就碳原子数为1~3的一价有机基团而言,该有机基团中包含的氢原子可以被卤素原子取代。

3.如权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其特征在于,具有所述通式(1)及/或(2)表示的结构的树脂中,R2包含通式(7)表示的有机基团,

[化学式3]

通式(7)中,R51~R54表示碳原子数为1~10的四价有机基团,R55~R62表示氢原子或碳原子数为1至10的一价有机基团。

4.如权利要求1~3中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,具有所述通式(1)及/或(2)表示的结构的树脂中,作为R1,还含有20~90摩尔%具有氟原子的有机基团。

5.如权利要求1~4中任一项所述的感光性树脂组合物,其特征在于,还含有光产酸剂。

6.如权利要求5所述的感光性树脂组合物,其中,还含有多官能丙烯酸酯化合物。

7.感光性片材,其由权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物形成。

8.感光性片材的制造方法,其包括将权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物涂布在基材上并进行干燥的工序。

9.固化膜,其是将权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物固化而成的。

10.固化膜,其是将权利要求7所述的感光性片材固化而成的。

11.层间绝缘膜或半导体保护膜,其配置有权利要求9或10所述的固化膜。

12.半导体电子部件或半导体器件的制造方法,其包括将权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物涂布在基材上,然后经过紫外线照射工序和显影工序而形成图案,进一步进行加热而形成固化膜的凹凸图案层的工序。

13.半导体电子部件或半导体器件的制造方法,其特征在于,将权利要求7所述的感光性片材层压在基材上,然后经过紫外线照射工序与显影工序而形成图案,进一步进行加热而形成固化膜的凹凸图案层。

14.半导体电子部件或半导体器件,其特征在于,具有权利要求9或10所述的固化膜的凹凸图案层。

15.半导体电子部件或半导体器件,其配置有权利要求9或10所述的固化膜作为再布线间的层间绝缘膜。

16.半导体电子部件或半导体器件,其反复配置有2~10层权利要求15所述的再布线和层间绝缘膜。

17.半导体电子部件或半导体器件,其中,权利要求9或10所述的固化膜作为层间绝缘膜被配置在相邻的2种以上材质的基板上。

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