[发明专利]感光性树脂组合物及电子部件在审
申请号: | 201680013754.8 | 申请日: | 2016-02-29 |
公开(公告)号: | CN107407876A | 公开(公告)日: | 2017-11-28 |
发明(设计)人: | 小山祐太朗;奥田良治;增田有希;北村友弘;荘司优 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | G03F7/023 | 分类号: | G03F7/023;C08G73/10;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 杨宏军,焦成美 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组合 电子 部件 | ||
1.感光性树脂组合物,其含有树脂,所述树脂的特征在于,具有通式(1)及/或(2)表示的结构,并且,
(a)含有10~80摩尔%具有脂环结构的碳原子数为4~40的有机基团作为通式(1)及(2)的R1,
(b)含有10~80摩尔%具有聚醚结构的碳原子数为20~100的有机基团作为通式(1)及(2)的R2,
[化学式1]
通式(1)及(2)中,R1表示具有单环式或稠合多环式的脂环结构的碳原子数为4~40的四价有机基团;R2表示具有聚醚结构的碳原子数为20~100的二价有机基团;R3表示氢或碳原子数为1~20的有机基团;n1、n2各自表示10~100,000的范围,p、q表示满足0≤p+q≤6的整数。
2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于,具有所述通式(1)及/或(2)表示的结构的树脂中,R1含有选自通式(3)~(6)中的1个以上的有机基团,
[化学式2]
通式(3)~(6)中,R4~R50各自独立地表示氢原子、卤素原子或碳原子数为1~3的一价有机基团;其中,碳原子数为1~3的一价有机基团的碳原子数以使得所述R1的碳原子数在4~40的范围内的方式进行选择;就碳原子数为1~3的一价有机基团而言,该有机基团中包含的氢原子可以被卤素原子取代。
3.如权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其特征在于,具有所述通式(1)及/或(2)表示的结构的树脂中,R2包含通式(7)表示的有机基团,
[化学式3]
通式(7)中,R51~R54表示碳原子数为1~10的四价有机基团,R55~R62表示氢原子或碳原子数为1至10的一价有机基团。
4.如权利要求1~3中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,具有所述通式(1)及/或(2)表示的结构的树脂中,作为R1,还含有20~90摩尔%具有氟原子的有机基团。
5.如权利要求1~4中任一项所述的感光性树脂组合物,其特征在于,还含有光产酸剂。
6.如权利要求5所述的感光性树脂组合物,其中,还含有多官能丙烯酸酯化合物。
7.感光性片材,其由权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物形成。
8.感光性片材的制造方法,其包括将权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物涂布在基材上并进行干燥的工序。
9.固化膜,其是将权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物固化而成的。
10.固化膜,其是将权利要求7所述的感光性片材固化而成的。
11.层间绝缘膜或半导体保护膜,其配置有权利要求9或10所述的固化膜。
12.半导体电子部件或半导体器件的制造方法,其包括将权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物涂布在基材上,然后经过紫外线照射工序和显影工序而形成图案,进一步进行加热而形成固化膜的凹凸图案层的工序。
13.半导体电子部件或半导体器件的制造方法,其特征在于,将权利要求7所述的感光性片材层压在基材上,然后经过紫外线照射工序与显影工序而形成图案,进一步进行加热而形成固化膜的凹凸图案层。
14.半导体电子部件或半导体器件,其特征在于,具有权利要求9或10所述的固化膜的凹凸图案层。
15.半导体电子部件或半导体器件,其配置有权利要求9或10所述的固化膜作为再布线间的层间绝缘膜。
16.半导体电子部件或半导体器件,其反复配置有2~10层权利要求15所述的再布线和层间绝缘膜。
17.半导体电子部件或半导体器件,其中,权利要求9或10所述的固化膜作为层间绝缘膜被配置在相邻的2种以上材质的基板上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽株式会社,未经东丽株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680013754.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:辐射敏感组合物、非晶膜和抗蚀图案形成方法
- 下一篇:感光性树脂组合物