[发明专利]含有铈土颗粒的抛光组合物及使用方法有效
| 申请号： | 201680013859.3 | 申请日： | 2016-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN107429121B | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | B.赖斯;林越;贾仁合 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B37/04;H01L21/306;C09K3/14;H01L21/304;H01L21/31 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含有 颗粒 抛光 组合 使用方法 | ||
1.化学机械抛光组合物，其包含：
(a)湿法铈土颗粒，其具有25nm至150nm的中值粒度及300nm或更高的粒度分布，其中所述湿法铈土颗粒具有包含三齿羟基的表面且具有2.0×10-5mol/m2或更高的三齿羟基表面覆盖率，及
(b)水性载剂。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光组合物，其中所述湿法铈土颗粒具有40nm至100nm的中值粒度。
3.根据权利要求1所述的化学机械抛光组合物，其中所述湿法铈土颗粒具有60nm至80nm的中值粒度。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光组合物，其中所述湿法铈土颗粒具有350nm或更高的粒度分布。
5.根据权利要求4所述的化学机械抛光组合物，其中所述湿法铈土颗粒具有375nm或更高的粒度分布。
6.根据权利要求1所述的化学机械抛光组合物，其中所述湿法铈土颗粒具有2.0×10-5mol/m2与6.0×10-5mol/m2的三齿羟基表面覆盖率。
7.根据权利要求6所述的化学机械抛光组合物，其中所述湿法铈土颗粒具有2.3×10-5mol/m2或更高的三齿羟基表面覆盖率。
8.根据权利要求1所述的化学机械抛光组合物，其中所述湿法铈土颗粒的拉曼光谱包含位于458cm-1处的峰及位于583cm-1处的峰，且其中，该位于458cm-1处的峰的强度与该位于583cm-1处的峰的强度之比为100或更低。
9.根据权利要求8所述的化学机械抛光组合物，其中，该位于458cm-1处的峰的强度与该位于583cm-1处的峰的强度之比为65或更低。
10.根据权利要求1所述的化学机械抛光组合物，其中所述湿法铈土颗粒以0.1重量％至1重量％的浓度存在于该抛光组合物中。
11.根据权利要求10所述的化学机械抛光组合物，其中所述湿法铈土颗粒以0.2重量％至0.6重量％的浓度存在于该抛光组合物中。
12.根据权利要求1所述的化学机械抛光组合物，其进一步包含pH调节剂。
13.根据权利要求12所述的化学机械抛光组合物，其中该pH调节剂选自烷基胺、醇胺、季胺氢氧化物、氨及其组合。
14.根据权利要求12所述的化学机械抛光组合物，其中该pH调节剂为三乙醇胺。
15.根据权利要求1所述的化学机械抛光组合物，其中该抛光组合物的pH为1至6。
16.根据权利要求15所述的化学机械抛光组合物，其中该抛光组合物的pH为3.5至5。
17.抛光基板的方法，该方法包括：
(i)提供基板；
(ii)提供抛光垫；
(iii)提供根据权利要求1所述的化学机械抛光组合物；
(iv)使该基板与该抛光垫及该化学机械抛光组合物接触；及
(v)使该抛光垫及该化学机械抛光组合物相对于该基板移动以研磨该基板的至少一部分，从而抛光该基板。
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