[发明专利]薄膜晶体管基底和包括其的显示装置有效

专利信息
申请号: 201680015775.3 申请日: 2016-05-09
公开(公告)号: CN107407846B 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 李一翻;黄智泳;李承宪;吴东炫;金起焕;徐汉珉;朴赞亨 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: G02F1/136 分类号: G02F1/136;H01L27/12;G02F1/1368;G02B1/11
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蔡胜有;苏虹
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 薄膜晶体管 基底 包括 显示装置
【权利要求书】:

1.一种薄膜晶体管基底,包括:

基底;

设置在所述基底上彼此交叉的多条栅极线和多条数据线;

薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括与所述栅极线连接的栅电极、设置在所述栅电极上以绝缘于所述栅电极的半导体层、与所述数据线电连接的源电极、和漏电极;以及

光反射减少层,所述光反射减少层设置在所述栅电极、所述源电极、所述漏电极、所述栅极线和所述数据线的面向所述基底的平面以及与所述栅电极、所述源电极、所述漏电极、所述栅极线和所述数据线的面向所述基底的所述平面相反的平面上,

其中所述光反射减少层的厚度在10nm至100nm的范围中;

其中对于波长为550nm的光,所述光反射减少层的折射率n在2至3的范围中;

其中对于所述光反射减少层,下面给出的式1的值落入0.004至0.078的范围,

[式1]

在式1中,k表示所述光反射减少层的消光系数,t表示所述光反射减少层的厚度,并且λ表示光的波长,

其中对于波长为550nm的光,所述光反射减少层的消光系数k在0.4至2的范围中,

其中所述光反射减少层包含MoTi氮氧化物。

2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管基底,其中具有所述光反射减少层的电极的光反射率为50%或更小。

3.一种显示装置,包括根据权利要求1至2中任一项所述的薄膜晶体管基底。

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