[发明专利]薄膜晶体管基底和包括其的显示装置有效
申请号: | 201680015775.3 | 申请日: | 2016-05-09 |
公开(公告)号: | CN107407846B | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 李一翻;黄智泳;李承宪;吴东炫;金起焕;徐汉珉;朴赞亨 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | G02F1/136 | 分类号: | G02F1/136;H01L27/12;G02F1/1368;G02B1/11 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡胜有;苏虹 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 基底 包括 显示装置 | ||
1.一种薄膜晶体管基底,包括:
基底;
设置在所述基底上彼此交叉的多条栅极线和多条数据线;
薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括与所述栅极线连接的栅电极、设置在所述栅电极上以绝缘于所述栅电极的半导体层、与所述数据线电连接的源电极、和漏电极;以及
光反射减少层,所述光反射减少层设置在所述栅电极、所述源电极、所述漏电极、所述栅极线和所述数据线的面向所述基底的平面以及与所述栅电极、所述源电极、所述漏电极、所述栅极线和所述数据线的面向所述基底的所述平面相反的平面上,
其中所述光反射减少层的厚度在10nm至100nm的范围中;
其中对于波长为550nm的光,所述光反射减少层的折射率n在2至3的范围中;
其中对于所述光反射减少层,下面给出的式1的值落入0.004至0.078的范围,
[式1]
在式1中,k表示所述光反射减少层的消光系数,t表示所述光反射减少层的厚度,并且λ表示光的波长,
其中对于波长为550nm的光,所述光反射减少层的消光系数k在0.4至2的范围中,
其中所述光反射减少层包含MoTi氮氧化物。
2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管基底,其中具有所述光反射减少层的电极的光反射率为50%或更小。
3.一种显示装置,包括根据权利要求1至2中任一项所述的薄膜晶体管基底。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社LG化学,未经株式会社LG化学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680015775.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:镜筒和光学装置
- 下一篇:彩色显示装置的驱动方法