[发明专利]氩气的纯化方法以及氩气的回收纯化装置有效
申请号: | 201680016958.7 | 申请日: | 2016-02-24 |
公开(公告)号: | CN107428532B | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | 黑泽靖志;松嶋秀明 | 申请(专利权)人: | 信越半导体株式会社 |
主分类号: | C01B23/00 | 分类号: | C01B23/00;C30B29/06 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶;谢顺星 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纯化 方法 以及 回收 装置 | ||
1.一种氩气的纯化方法,其通过向作为杂质含有氢、一氧化碳、以及氧中的至少一种以上的氩气中,添加氧而在催化塔中用催化反应将在所述氩气中含有的氢和一氧化碳转换为水和二氧化碳,或添加氢而在所述催化塔中用催化反应将在所述氩气中含有的氧转换为水,从所述氩气中除去氢、一氧化碳、以及氧中的至少一种以上,其特征在于,具有:
在所述催化塔的出口侧监测氢、一氧化碳、以及氧中的至少一种的工序;以及
在所述催化塔的出口侧检测出氢以及一氧化碳中的任一种的情况下在所述催化塔的入口侧向所述氩气中添加氧的工序、和在所述催化塔的出口侧检测出氧的情况下在所述催化塔的入口侧向所述氩气中添加氢的工序中的至少一种工序,
相对于所述氩气被连续地供给至所述催化塔,间歇性地进行被添加至所述催化塔的氧或氢的添加,从而除去在所述氩气中含有的氢、一氧化碳、以及氧中的任意一种以上。
2.根据权利要求1所述的氩气的纯化方法,其特征在于,其在所述催化塔的下游不具有通过与金属的氧化反应将在所述催化反应中剩余的氧除去的工序、以及通过与金属的还原反应将在所述催化反应中剩余的氢除去的工序。
3.根据权利要求1所述的氩气的纯化方法,其特征在于,比较在所述被纯化的氩气中含有的氢和一氧化碳的合计量与氧的量,在所述氢和一氧化碳的合计量相对于所述氧的量以摩尔当量比记超过2倍的情况下,使添加的气体为氧,在不足2倍的情况下使添加的气体为氢。
4.根据权利要求2所述的氩气的纯化方法,其特征在于,比较在所述被纯化的氩气中含有的氢和一氧化碳的合计量与氧的量,在所述氢和一氧化碳的合计量相对于所述氧的量以摩尔当量比记超过2倍的情况下,使添加的气体为氧,在不足2倍的情况下使添加的气体为氢。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的氩气的纯化方法,其特征在于,使所述被纯化的氩气为从单晶硅制造装置排出的废氩气。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的氩气的纯化方法,其特征在于,使所述间歇性地添加的氧或氢的量与在未添加氧以及氢的时间里所述催化反应中不足的氧或氢的化学计量相等。
7.根据权利要求5所述的氩气的纯化方法,其特征在于,使所述间歇性地添加的氧或氢的量与在未添加氧以及氢的时间里所述催化反应中不足的氧或氢的化学计量相等。
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