[发明专利]热处理装置

权利要求书

1.一种用于热处理的装置，包括至少一个设于长条形壳体(2)中的处理室(3)，所述处理室具有加热装置和用于连续输送待处理物(5)穿过处理室(3)的输送系统(4)，其中所述输送系统(4)具有两个平行并相互间隔一定距离的环式输送带(4.1)，其包含数个跨过所述输送带的间距并支撑在输送带上的由石英玻璃构成的柱体，以供支承所述待处理物(5)来进行热处理，其特征在于，所述柱体实施为双管(4.2)，其由两个通过隔片(11)相互隔开且分别具有一个纵轴的管状隔室(10；10')构成，并且所述双管在其末端处与所述输送带(4.1)抗旋转连接。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述双管(4.2)如此安装在所述输送带(4.1)上，使得所述纵轴位于同一水平面(H)中。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述双管(4.2)如此安装在所述输送带(4.1)上，使得所述纵轴位于同一竖直面中。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的装置，其特征在于，所述双管(4.2)被保持在分别与一个输送带(4.1)连接的夹箍弹簧(6)中。

5.根据上述权利要求1至3中任一项所述的装置，其特征在于，所述双管(4.2)至少部分具有由不透明的高反射石英玻璃构成的涂层。

6.根据上述权利要求1至3中任一项所述的装置，其特征在于，所述处理室(3)包括由红外线加热辐射器(8)构成的里衬，所述红外线加热辐射器具有由石英玻璃构成的、构建为双管的管套，所述管套具有朝向处理室的一侧和背离处理室的一侧，且其通过含SiO₂的连接材料相连。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述含SiO₂的连接材料同时作用反射器和粘合剂。

8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述含SiO₂的连接材料被施覆至所述红外线加热辐射器(8)的朝向处理室(3)的一侧。

9.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述含SiO₂的连接材料被施覆至所述红外线加热辐射器(8)的背离处理室(3)的一侧。

10.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述红外线加热辐射器(8)具有加热丝，其使得所述加热装置的总面积功率处于80kW/m²至120kW/m²的范围内。

11.一种如权利要求1至10中任一项所述的装置的应用，用于制造具有金层的玻璃构件。

12.根据权利要求11所述的应用，其中所述金层是金反射层。