[发明专利]反射防止结构体

权利要求书

1.一种反射防止结构体，在由吸收光的材料所构成的基体材料表面上形成有反射防止用的凹凸结构，其特征为，

所述凹凸结构是当所述光的波长为λ、所述凹凸结构的平均间距为P时满足P＞λ的结构。

2.根据权利要求1所述的反射防止结构体，其特征为，所述材料是含有吸收所述光的光吸收成分的材料，该光吸收成分的平均粒径为该光的波长的2分之1以下。

3.根据权利要求1或2所述的反射防止结构体，其特征为，所述凹凸结构是满足P≥6λ的结构。

4.根据权利要求1至3中任意1项所述的反射防止结构体，其特征为，所述凹凸结构是当该凹凸结构的平均深度为H时满足H/P≥1的结构。

5.根据权利要求1至4中任意1项所述的反射防止结构体，其特征为，当所述基体材料的厚度为L时满足L≥λ。

6.根据权利要求1至5中任意1项所述的反射防止结构体，其特征为，所述凹凸结构的平均间距P为10μm以下。

7.根据权利要求1至6中任意1项所述的反射防止结构体，其特征为，所述凹凸结构呈不产生衍射光的形态。

8.根据权利要求7所述的反射防止结构体，其特征为，所述凹凸结构的该凹凸结构的要素结构的配置是随机的。

9.根据权利要求8所述的反射防止结构体，其特征为，所述凹凸结构的该要素结构的大小及形状中的任意一方或双方是被调节的，以便平面部少于所述要素结构的大小及形状一定时。

10.根据权利要求1至9中任意1项所述的反射防止结构体，其特征为，所述凹凸结构的要素结构呈旋转抛物线的炮弹形状。

11.根据权利要求1至9中任意1项所述的反射防止结构体，其特征为，所述凹凸结构呈线和空间形状。

12.根据权利要求11所述的反射防止结构体，其特征为，所述线和空间的凸部的截面形状为三角形。

13.根据权利要求1至12中任意1项所述的反射防止结构体，其特征为，所述基体材料的材料为刻印用树脂。