[发明专利]反射防止结构体

说明书

技术领域

本发明涉及一种抑制表面上光的反射的反射防止结构体。

背景技术

在照相机、液晶显示器等的光学元件中，表面的光反射有时会成为问题。例如，在照相机的镜头单元内存在具有将光集中成一定量而送到摄影元件的作用的固定光圈，如果在光圈表面上发生光反射，则成为杂光而有损于鲜明的摄影，因此要求表面具有低反射性。另外，由于固定光圈的内周端面等位于光路上，因此如果镜头单元内的不需要的光在该端面上发生反射，则射入摄影元件而引起光斑或叠影等摄影不良。为了防止该摄影不良，对内周端面部实施反射防止处理的固定光圈等存在需求。

以往，在由树脂构成的基板的表面上存在形成氧化钛膜的黑色覆盖膜，氧化钛膜具有由微细柱状结晶构成的凹凸结构(例如，参照专利文献1)。

专利文献1：国际公开号WO2010/026853

发明内容

但是，该凹凸结构并不是被控制的，从反射防止的观点考虑还并不充分。另外，并不考虑防止因凹凸结构而产生的衍射光。

于是，本发明所要解决的技术问题是提供一种能够抑制光的反射的反射防止物品。

为了实现上述目的，本发明为一种反射防止结构体，在由吸收光的材料所构成的基体材料表面上形成有反射防止用的凹凸结构，其特征为，所述凹凸结构是当所述光的波长为λ、所述凹凸结构的平均间距为P时满足P＞λ的结构。

此时，所述材料是含有吸收所述光的光吸收成分的材料，优选该光吸收成分的平均粒径为该光的波长的2分之1以下。另外，优选所述凹凸结构是满足P≥6λ的结构。另外，优选所述凹凸结构是当该凹凸结构的平均深度为H时满足H/P≥1的结构。另外，优选当所述基体材料的厚度为L时满足L≥λ。另外，优选所述凹凸结构的平均间距P为10μm以下。

另外，优选所述凹凸结构呈不产生衍射光的形态。例如，所述凹凸结构的要素结构的配置可以是随机的。此时，优选所述凹凸结构的该要素结构的大小及形状中的任意一方或双方是被调节的，以便平面部少于所述要素结构的大小及形状一定时。

另外，所述凹凸结构的形状可以形成为要素结构呈旋转抛物线的炮弹形状，或者形成为呈线和空间(line and space)形状。所述线和空间的凸部的截面形状呈三角形即可。

另外，所述基体材料的材料可以使用刻印用树脂。

本发明的反射防止结构体如下，通过控制凹凸结构来能够充分抑制光的反射。

附图说明

图1是表示本发明的反射防止结构体的立体图。

图2是表示本发明的反射防止结构体的反射特性的曲线图。

图3是表示本发明的反射防止结构体的俯视图。

图4是表示从图3的I-I线方向观察的凹凸结构形状的示意图。

图5是表示本发明的其他反射防止结构体的立体图。

图6是表示本发明的其他反射防止结构体的反射特性的曲线图。

图7是表示凹凸结构的截面形状的示意图。

图8是表示其他反射防止结构体的反射特性的曲线图。

符号说明

1-反射防止结构体；2-基体材料；3-凹凸结构。

具体实施方式

如图1所示，本发明的反射防止结构体1如下，在由吸收光的材料所构成的基体材料2表面上形成有反射防止用的凹凸结构3，凹凸结构3是当光的波长为λ、凹凸结构3的平均间距为P时满足P＞λ的结构。

并且，在此指的光表示希望防止反射的规定波长的光(电磁波)。从而，当光包含不同波长的多个电磁波时，对于希望防止反射的全部光的波长，需要以满足P＞λ的方式构成凹凸结构3。即，当包含于光的电磁波的最大波长为λmax时，以满足P＞λmax的方式构成凹凸结构3即可。例如，关于波长处于380nm～780nm范围的可见光，当想要防止全部电磁波的反射时，以满足P＞780nm的方式构成凹凸结构3即可。