[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法、及曝光方法有效
申请号: | 201680020549.4 | 申请日: | 2016-03-31 |
公开(公告)号: | CN107533303B | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 内藤一夫;青木保夫;长岛雅幸 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G02F1/13;G03F7/20 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 平面 显示器 制造 方法 元件 | ||
透过投影光学系(30)对基板(P)照射照明光(IL),并对基板(P)相对驱动投影光学系(PL)以进行扫描曝光的液晶曝光装置(10),具备进行设于基板(P)的标记(Mk)的标记检测的对准显微镜(62、64)、驱动对准显微镜(62、64)的第1驱动系、驱动投影光学系(40)的第2驱动系、以及以在投影光学系(40)的驱动前先进行对准显微镜(62、64)的驱动的方式控制第1及第2驱动系的控制装置。如此,即能抑制曝光处理所需的生产时间。
技术领域
本发明是关于曝光装置、平面显示器的制造方法、元件制造方法及曝光方法,详言之,是关于借由对物体进行将能量束扫描于既定扫描方向的扫描曝光,将既定图案形成在物体上的曝光装置及方法、以及包含前述曝光装置或方法的平面显示器或元件的制造方法。
背景技术
一直以来,在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微元件)的微影制造过程,是使用曝光装置,此曝光装置使用能量束将形成在光罩或标线片(以下,统称为「光罩」)的图案转印至玻璃板或晶圆(以下,统称为「基板」)上。
作为此种曝光装置,已知有一种在使光罩与基板实质静止的状态下,将曝光用照明光(能量束)扫描于既定扫描方向,据以在基板上形成既定图案的线束扫描式的扫描曝光装置(例如参照专利文献1)。
在述专利文献1中记载的曝光装置,为修正基板上的曝光对象区域与光罩的位置误差,是一边使投影光学系往与曝光时的扫描方向相反方向移动、一边通过投影光学系以对准显微镜进行基板上及光罩上的标记的测量(对准测量),根据该测量结果修正基板与光罩的位置误差。此处,由于是通过投影光学系测量基板上的对准标记,因此对准动作与曝光动作是依序 (serially)实施,欲抑制所有基板的曝光处理所需的处理时间(生产时间)是非常困难的。
先行技术文献
[专利文献1]日本特开2000-12422号公报
发明内容
用以解决课题的手段
本发明在上述事情下完成,第1观点的曝光装置,是透过投影光学系对物体照射照明光,并相对该物体驱动该投影光学系以进行扫描曝光,其具备:标记检测部,用以进行设在该物体的标记的标记检测;第1驱动系,是驱动该标记检测部;第2驱动系,是驱动该投影光学系;以及控制装置,是以在该投影光学系的驱动前先进行该标记检测部的驱动的方式控制该第 1及第2驱动系。
本发明第2观点的平面显示器的制造方法,其包含使用本发明的曝光装置使该物体曝光的动作、以及使曝光后的该物体显影的动作。
本发明第3观点的元件制造方法,其包含使用本发明的曝光装置使该物体曝光的动作、以及使曝光后的该物体显影的动作。
本发明第4观点的曝光方法,是透过投影光学系对物体照射照明光,并相对该物体驱动该投影光学系以进行扫描曝光,其包含:使用标记检测部进行的设于该物体的标记的标记检测;使用第1驱动系的该标记检测部的驱动;使用第2驱动系的该投影光学系的驱动;以及以在该投影光学系的驱动前先进行该标记检测部的驱动的方式进行该第1及第2驱动系的控制。
本发明第5观点的平面显示器的制造方法,其包含使用本发明的曝光方法使该物体曝光的动作、以及使曝光后的该物体显影的动作。
本发明第6观点的元件制造方法,其包含使用本发明的曝光方法使该物体曝光的动作、以及使曝光后的该物体显影的动作。
附图说明
图1是第1实施例的液晶曝光装置的概念图。
图2是显示以图1的液晶曝光装置的控制系为中心构成的主控制装置的输出入关系的方框图。
图3是用以说明投影系本体、及对准显微镜的测量系的构成的图。
图4(a)~图4(d)是用以说明曝光动作时的液晶曝光装置的动作的图(其1~其4)。
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