[发明专利]基板保持机构、成膜装置、及基板的保持方法

说明书

基板保持机构(20)具备：保持部(21、22)，具有载置面(21S)，基板(S)的外周部被载置于载置面(21S)，保持部(21、22)将基板保持于该载置面上。保持部(21、22)在第一位置(P1)与不同于该第一位置(P1)的第二位置(P2)之间变更载置面(21S)的位置。保持部(21、22)具备：吸附部，将基板(S)静电吸附于载置面(21S)的至少一部分。

技术领域

本发明涉及保持基板的基板保持机构，在基板形成预定膜的成膜装置以及基板保持方法。

背景技术

作为在基板上形成预定膜的成膜装置，已知有例如枚叶式溅镀装置。枚叶式溅镀装置提出有如下结构：具备进行成膜处理的处理室，处理室具备大致垂直配置的靶材以及保持基板且改变基板相对于靶材的姿势的基板保持机构。基板保持机构将基板的姿势改变为相对于靶材为大致垂直的状态和与靶材大致平行的状态。在这样的溅镀装置中，基板保持机构使用夹持机构将基板的外周保持于载置台的载置面(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:特开2004-332117号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，近年来，在使具备用溅镀装置形成的膜的制品轻量化，赋予制品可挠性或柔软性的目的下，需要成膜对象的基板厚度更小。

在此，用夹持机构将基板保持于载置台时，在夹持机构中，在夹片的基端对基板施加的力最大，越朝向夹片的前端则对基板施加的力会变得越小。然后，基板厚度变得越小，夹片对基板施加越大的力的话，在与夹片的基端抵接的基板部分应力集中，使基板破裂。因此，夹片施加基板的力有其极限。结果，有时夹片施加于基板的力变弱到如下程度：基板姿势从相对于靶材大致垂直的状态变成大致平行的状态时基板位置改变的程度，甚至基板弯曲的程度。

并且，这种状况并不限于基板姿势改变几乎90°的基板保持机构，在通过使基板摇动或使基板表背反转而改变基板姿势的基板保持机构中也同样存在，而且，不限于上述溅镀装置，在其他基板处理装置，例如蒸镀或蚀刻装置等中也同样存在。

本发明的目的在于提供一种基板保持机构、成膜装置以及基板保持方法，抑制随着基板姿势改变而相对于载置面的基板位置改变。

用以解决课题之手段

根据一方式的基板保持机构，具备保持部，所述保持部具有载置面，基板的外周部被载置于所述载置面，所述保持部将所述基板保持于所述载置面上，在第一位置和不同于所述第一位置的第二位置之间变更所述载置面的位置；所述保持部具备：吸附部，静电吸附所述基板于所述载置面的至少一部分。

根据此结构，因为基板的外周部被载置于载置面，基板被吸附于载置面的至少一部分，所以通过基板与载置面的面接触，能够抑制用来保持基板位置的力集中在基板边缘等。因此，相较于用来保持基板位置的力集中于基板边缘等的仅由夹持片来保持基板，基板相对于载置面的位置随着基板姿势改变而改变的状况被抑制。

在上述基板保持机构的其他方式中，优选为还具备：温度调节部，调节所述基板的温度；所述载置面具有环状；所述温度调节部位于所述载置面的内侧。

根据此结构，可以用温度调节部来调节被基板保持机构所保持的基板的温度。

在上述基板保持机构的其他方式中，优选为所述温度调节部被构成为位于所述载置面的内侧并与所述基板分离。

根据此结构，因为基板温度可被与基板分离的温度调节部的辐射热所调节，所以基板面内的温度分布偏差被抑制。