[发明专利]具有片上噪声保护电路的半导体芯片有效
申请号: | 201680021557.0 | 申请日: | 2016-03-25 |
公开(公告)号: | CN107431042B | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 柳川善光;松本昌大;中野洋;小田部晃;浅野哲 | 申请(专利权)人: | 日立汽车系统株式会社 |
主分类号: | H01L21/822 | 分类号: | H01L21/822;H01L27/04 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 噪声 保护 电路 半导体 芯片 | ||
本发明提供一种具有耐噪性高的保护电路的半导体芯片。本发明的半导体芯片具有压焊块、保护元件及内部电路,其特征在于,到达至所述压焊块和所述保护元件的路径上的金属配线的电阻值高于所述保护元件的电阻值。
技术领域
本发明涉及一种具有通过形成于芯片上的保护电路来保护内部电路免受噪声影响的功能的半导体芯片。
背景技术
当因静电、电涌等噪声而导致过大电压施加至半导体芯片的内部电路时,会引起栅极氧化膜的绝缘破坏或者PN接合部的破坏、劣化,从而引起半导体芯片的永久故障或者电路特性的变化等。为了防止这种由噪声所引起的内部电路的破坏或劣化而实现可靠性高的半导体芯片,必须在压焊块与内部电路之间设置保护电路,以使得即便在噪声施加时也不会对内部电路施加过大电压。专利文献1中记载的技术是在输入压焊块与内部电路之间配备多晶硅电阻和钳位晶体管。当过电压施加至压焊块时,钳位晶体管进行击穿或骤回动作而成为低电阻状态,使得电流从压焊块经由多晶硅电阻和钳位晶体管朝接地端子流动。此时,噪声的能量的大部分被多晶硅电阻吸收,施加至内部电路的电压被钳制在一定值以下,因此,能够防止前文所述那样的元件破坏和特性的劣化。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开昭61-32563号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而,在现有技术中,为了连接压焊块与多晶硅电阻而需要触点压焊块,从而存在该触点容易被噪声破坏的问题。通常,触点是由钨等金属材料构成,而多晶硅电阻是由半导体材料构成,因此,会在两者的接合部分产生寄生电阻。此外,还存在因近来的微细化而使得触点尺寸缩小的情况,导致触点的电阻相对较高。结果,噪声的能量集中于触点部分,从而有触点烧损之虞。
本发明是鉴于上述情况而成,其目的在于提高片上噪声保护电路的耐噪性,提供一种可靠性更高的半导体芯片。
解决问题的技术手段
达成上述目的的本发明的半导体芯片的特征在于,到达至压焊块和保护元件的路径上的金属配线的电阻值高于所述保护元件的电阻值。
发明的效果
根据本发明,在压焊块与保护电阻之间不需要触点,从而能够提供可靠性更高的半导体芯片。
附图说明
图1为形成第1实施例的半导体芯片的电路构成。
图2为保护元件的电阻值的说明图。
图3为形成第1实施例的半导体芯片的截面图。
图4为形成第2实施例的半导体芯片的俯视图。
图5为第2实施例的变形例。
图6为形成第3实施例的半导体芯片的截面图。
图7为第3实施例的变形例。
图8为形成第4实施例的半导体芯片的电路构成。
图9为形成第4实施例的半导体芯片的截面图。
图10为形成第5实施例的半导体芯片的电路构成。
图11为形成第5实施例的半导体芯片的俯视图。
图12为第1实施例的变形例。
图13为第1实施例的变形例。
图14为形成第6实施例的半导体芯片的电路构成。
图15为形成第7实施例的半导体芯片的截面图。
图16为第7实施例的变形例。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立汽车系统株式会社,未经日立汽车系统株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680021557.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造