[发明专利]电荷传输性膜、有机电致发光元件及它们的制造方法

说明书

一种具有50nm～300nm范围内的膜厚的电荷传输性膜的制造方法，其具备下述工序：将包含仅由N,N'‑二芳基联苯胺衍生物组成的电荷传输性物质、掺杂剂物质和有机溶剂的电荷传输性膜形成用清漆涂布在基材上的工序；以及，将所得涂膜以下述式(S1)所示的烧成温度进行烧成的工序。烧成温度>[232.5℃+(前述膜厚/20nm)×5℃](S1)。

技术领域

本发明涉及电荷传输性膜的制造方法和电荷传输性膜、以及提高电荷传输性膜的电荷传输性的方法。

背景技术

有机电致发光(以下称为有机EL)元件中，作为发光层、电荷注入层，可以使用包含有机化合物的电荷传输性膜。尤其是，空穴注入层承担阳极与空穴传输层或发光层之间的电荷授受，对于实现有机EL元件的低电压驱动和高亮度而言发挥出重要功能。

空穴注入层的形成方法大致分为以蒸镀法为代表的干式工艺和以旋涂法为代表的湿式工艺，将这些各工艺进行对比时，湿式工艺更能够有效地制造大面积且平坦性高的薄膜。因此，在有机EL显示器日益大面积化的今天，期望能够利用湿式工艺来形成的空穴注入层。

鉴于这种情况，本发明人等开发了能够应用于各种湿式工艺且应用于有机EL元件的空穴注入层时会赋予能够实现优异EL元件特性的薄膜的电荷传输性材料、对于其中使用的有机溶剂的溶解性良好的化合物(例如参照专利文献1～4)。

但是，关于空穴注入层用的湿式工艺材料，要求不断地进行改善，特别要求会赋予电荷传输性优异的薄膜的湿式工艺材料。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2008/032616号

专利文献2：国际公开第2008/129947号

专利文献3：国际公开第2006/025342号

专利文献4：国际公开第2010/058777号

专利文献5：日本特开2009-64696号

发明内容

发明要解决的问题

然而，有机EL元件的结构可大致分为底部发光结构和顶部发光结构。底部发光结构的元件中，在基板侧使用透明阳极，从基板侧取出光，与此相对，顶部发光结构的元件中使用由金属形成的反射阳极，从存在于基板反方向的透明电极(阴极)侧取出光。

顶部发光结构的元件不像底部发光结构的元件那样地从基板侧取出光，因此不存在源自发光层的光被TFT遮挡的问题，因此，顶部发光结构的元件存在能够保持高开口率的优点。其结果，光取出效率提高，能够实现元件的低耗电化、长寿命化，因此，近年来的顶部发光结构的元件备受关注。

关于这种顶部发光结构的元件，已知在自发光层的发光面起至反射阳极为止的光学距离满足特定条件的情况下，通过干涉效应而实现光取出效率的提高(例如参照专利文献5)。因此，出于通过干涉效应来提高光取出效率的目的而尝试设定与发光波长相符的自发光面起至反射阳极为止的光学距离时，为了实现最佳条件而要求具有用于确保充分长度的光学距离的厚度的空穴注入层等电荷传输性膜。

本发明是鉴于上述情况而进行的，其目的在于，提供即使在膜厚较厚的情况下也显示出高电荷传输性、应用于有机EL元件的空穴注入层时能够实现优异特性的电荷传输性膜的制造方法、电荷传输性膜、有机电致发光元件、有机电致发光元件的制造方法、提高电荷传输性膜的电荷传输性的方法。

用于解决问题的方案