[发明专利]用于控制玻璃片厚度的方法和设备在审
申请号: | 201680025337.5 | 申请日: | 2016-04-29 |
公开(公告)号: | CN107531538A | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | J·A·布朗-蔡;F·科波拉;H·C·陆;W·A·韦登 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | C03B17/02 | 分类号: | C03B17/02;C03B17/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 徐鑫,项丹 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 控制 玻璃片 厚度 方法 设备 | ||
1.一种系统,其包括:
包括堰的溢流分配器;以及
热交换单元,其位置靠近所述堰并且包括管式聚焦元件和至少部分布置在聚焦元件的腔体内的热元件,聚焦元件在远端延伸超过热元件的远端的距离为lt。
2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,聚焦元件的远端与堰间隔的距离为l,从而将热交换单元聚焦到堰的区域上。
3.如权利要求1或2所述的系统,其特征在于,热交换单元包括多个热交换单元,每个的位置靠近堰并且聚焦到堰的多个区域的对应那个上面。
4.如权利要求3所述的系统,其特征在于,热交换单元布置在至少部分沿着堰的宽度延伸的线中。
5.如权利要求3或4所述的系统,所述系统还包括外壳,所述外壳包括延伸通过外壳的多个开口,在外壳的所述多个开口的一个中分别接收所述多个热交换单元。
6.如权利要求1-5中任一项所述的系统,其特征在于,溢流分配器是上溢流分配器,以及所述系统还包括位于上溢流分配器下方的下溢流分配器。
7.一种方法,所述方法包括:
使熔融玻璃流在堰上流过;以及
通过与熔融玻璃流的多个区域上的每一个进行热交换,来控制在堰上流过的熔融玻璃流的熔融玻璃流的宽度上热分布。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,与所述多个区域上的每一个进行热交换包括将多个热交换单元分别聚焦到所述多个区域上的对应的一个上面。
9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述多个热交换单元分别包括热元件和聚焦元件,所述热元件构造成与熔融玻璃流进行热交换以及所述聚焦元件构造成将热交换聚焦到对应区域上。
10.如权利要求9所述的方法,所述方法还包括使得热交换流体流动通过热元件的管式套壳的腔体。
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,套壳包括封闭远端,以防止热交换流体以朝向熔融玻璃流的方向离开套壳。
12.如权利要求10或11所述的方法,其特征在于,套壳至少部分布置在聚焦元件的腔体内,以及聚焦元件在远端延伸超过套壳的远端的距离为lt。
13.如权利要求10-12中任一项所述的方法,所述方法还包括使得热交换流体流动通过至少部分布置在套壳的腔体内的热元件的内管,以及使得热交换流体流动通过限定在内管与套壳之间的空间。
14.如权利要求9-13中任一项所述的方法,其特征在于,所述聚焦元件在远端延伸超过热元件的远端的距离为lt,以及所述方法还包括调节距离lt。
15.如权利要求8-14中任一项所述的方法,其特征在于,所述多个热交换单元中的每一个与熔融玻璃流间隔的距离为l,以及所述方法还包括调节距离l。
16.如权利要求7-15中任一项所述的方法,其特征在于,控制熔融玻璃流的热分布包括控制熔融玻璃流与堰接触部分的热分布。
17.如权利要求16所述的方法,其特征在于,所述熔融玻璃流的部分是与堰的上表面接触。
18.一种设备,其包括:
管式聚焦元件,其包括:近端、与近端相对的开放远端、以及在聚焦元件内纵向延伸的腔体;以及
至少部分布置在聚焦元件的腔体内的热元件,聚焦元件在远端延伸超过热元件的距离为lt。
19.如权利要求18所述的设备,其特征在于,热元件包括:
管式套壳,其包括近端、封闭远端、以及在套壳内纵向延伸的腔体;以及
至少部分布置在套壳的腔体内的内管,内管的外直径小于套壳的内直径,从而在内管的外表面与套壳的内表面之间限定了空间。
20.如权利要求18或19所述的设备,其特征在于,所述热元件包含碳化硅。
21.如权利要求18-20中任一项所述的设备,其特征在于,聚焦元件还包括隔热层。
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