[发明专利]抛光垫和使用抛光垫的系统和方法

权利要求书

1.一种用于抛光基板的系统，所述系统包括：

第一载体组件，所述第一载体组件被构造成接收并保持所述基板；

抛光垫，所述抛光垫包括：

顶部主表面和与所述顶部主表面相对定位的底部主表面；

多个抛光元件，所述多个抛光元件从所述抛光垫的所述顶部主表面延伸，其中所述抛光元件包括杆，所述杆具有第一高度和第一厚度，以及抛光头，所述抛光头相对于所述杆向远侧设置并具有第二高度和第二厚度，并且其中所述第二厚度大于所述第一厚度；

抛光液，所述抛光液设置在所述抛光垫的所述顶部主表面和所述基板之间，其中所述抛光液包含：

流体组分，和

分散在所述流体组分中的多个陶瓷磨料复合物，所述陶瓷磨料复合物包含分散在多孔陶瓷基体中的单独的磨料颗粒；以及

第二载体组件，所述第二载体组件被构造成接收并保持所述抛光垫；

其中所述抛光垫联接到所述第二载体组件，使得所述抛光垫的所述顶部主表面邻近所述基板的表面；以及

其中所述系统被构造成使得所述抛光垫能够相对于所述基板运动以进行抛光操作。

2.根据权利要求1所述的用于抛光基板的系统，其中所述第一高度与所述第一厚度的比率大于1。

3.根据权利要求2所述的用于抛光基板的系统，其中所述第一高度介于2mm和0.2mm之间。

4.根据权利要求1所述的用于抛光基板的系统，其中所述第二高度介于0.3mm和0.05mm之间，并且所述第二厚度介于0.2mm和0.6mm之间。

5.根据权利要求1所述的用于抛光基板的系统，其中所述抛光元件与所述顶部主表面一体地形成。

6.根据权利要求1所述的用于抛光基板的系统，其中所述抛光元件围绕所述顶部主表面均匀分布。

7.根据权利要求1所述的用于抛光基板的系统，其中所述抛光元件由聚丙烯形成。

8.根据权利要求1所述的用于抛光基板的系统，其中所述顶部主表面和所述底部主表面之间的距离介于0.2mm和7mm之间。

9.根据权利要求1所述的用于抛光基板的系统，所述用于抛光基板的系统还包括从所述顶部主表面延伸通过底部主表面的多个腔。

10.根据权利要求1所述的用于抛光基板的系统，其中所述抛光垫还包括子垫，所述子垫联接到所述底部主表面，并且设置在所述底部主表面和压板之间。

11.根据权利要求1所述的系统，其中所述陶瓷磨料复合物具有4％至70％的范围内的孔内容积。

12.根据权利要求1所述的系统，其中所述磨料颗粒包含金刚石、立方氮化硼、熔融氧化铝、陶瓷氧化铝、加热处理的氧化铝、碳化硅、碳化硼、氧化铝-氧化锆、氧化铁、二氧化铈，或石榴石。

13.根据权利要求12所述的系统，其中所述磨料颗粒包含金刚石。

14.根据权利要求1所述的系统，其中所述陶瓷磨料复合物的平均粒度小于500微米。

15.根据权利要求1所述的系统，其中所述陶瓷磨料复合物的平均尺寸为所述磨料颗粒的所述平均尺寸的至少5倍。

16.根据权利要求1所述的系统，其中所述多孔陶瓷基质包含玻璃，所述玻璃包含氧化铝、氧化硼、氧化硅、氧化镁、氧化钠、氧化锰，或氧化锌。

17.根据权利要求1所述的系统，其中所述流体组分中的所述磨料复合物的浓度介于0.065重量％和6.5重量％之间。

18.一种用于抛光基板的表面的方法，所述方法包括：

提供具有待抛光的主表面的基板；

提供根据权利要求1所述的用于抛光基板的系统；

当所述抛光垫与所述基板的所述主表面之间存在相对运动时，使所述基板的所述主表面与所述抛光垫和所述抛光液接触。