[发明专利]抛光垫和使用抛光垫的系统和方法

说明书

抛光系统包括被构造成接收并保持基板和抛光垫的第一载体组件。抛光垫包括顶部主表面和与该顶部主表面相对定位的底部主表面，以及从抛光垫的顶部主表面延伸的多个抛光元件。该系统还包括设置在抛光垫的顶表面和基板之间的抛光液。抛光流体包含流体组分和分散在流体组分中的多个陶瓷磨料复合物，该陶瓷磨料复合物包含分散在多孔陶瓷基体中的单独的磨料颗粒。该系统还包括被构造成接收并保持抛光垫的第二载体组件。该系统被构造成使得抛光垫能够相对于基板运动以进行抛光操作。

技术领域

本公开涉及可用于抛光基板的抛光垫和使用此类抛光垫的系统和方法。

背景技术

已经引入了用于超硬基板的抛光的各种制品、系统和方法。此类制品、系统和方法例如在以下会议中有所描述：2010年5月17日至20日在俄勒冈州波特兰市(PortlandOregon)举行的E.Kasman,M.Irvin,CS Mantech 会议；以及4月23日至26日在马萨诸塞州波士顿市(Boston,MA)举行的K.Y.Ng,T.Dumm,CS Mantech会议。

发明内容

在一些实施方案中，提供了一种用于抛光基板的系统。该系统包括被构造成接收并保持基板和抛光垫的第一载体组件。抛光垫包括顶部主表面和与顶部主表面相对定位的底部主表面，以及从抛光垫的顶部主表面延伸的多个抛光元件。该系统还包括设置在抛光垫的顶表面和基板之间的抛光液。抛光流体包括流体组分和分散在流体组分中的多个陶瓷磨料复合物，该陶瓷磨料复合物包括分散在多孔陶瓷基体中的单独的磨料颗粒。该系统还包括被构造成接收并保持抛光垫的第二载体组件。该抛光垫联接到第二载体组件，使得抛光垫的顶表面邻近基板的表面，并且系统被构造成使得抛光垫相对于基板可移动以执行抛光操作。

在一些实施方案中，提供了一种用于抛光基板的表面的方法。该方法包括提供具有待抛光主表面的基板，提供上述用于抛光基板的上述系统，以及使基板的主表面与抛光垫和抛光液接触，同时抛光垫和基板的主表面之间存在相对运动。

本公开的以上概述不旨在描述本公开的每个实施方案。本公开的一个或多个实施方案的细节也阐述在以下说明中。依据说明和权利要求书，本公开的其它特征、目标和优点将显而易见。

附图说明

结合附图来考虑本公开的各种实施方案的以下详细说明可以更全面地理解本公开，其中：

图1示出了根据本公开的一些实施方案的抛光系统的示例的示意图。

图2A至图2D示出了根据本公开的一些实施方案的抛光垫的示意性剖视图。

具体实施方式

定义

如本文所用，单数形式“一个”、“一种”和“所述”包括复数指代，除非所述内容清楚地表示其它含义。在本说明书和所附实施方案中所使用的术语“或”通常以其包括“和/或”的含义采用，除非所述内容清楚地指示其它含义。

如本文所用，通过端点表述的数值范围包括该范围内所包含的所有数值(例如，1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.8、4和5)。

除非另外指明，否则说明书和实施方案中所使用的所有表达数量或成分、特性量度等的数值在一切情况下均应理解成由术语“约”修饰。因此，除非有相反的说明，否则在上述说明书和附加实施方案列表中列出的数值参数可以随本领域的技术人员利用本公开的教导内容寻求获得的期望特性而变化。在最低程度上，并且在不试图将等同原则的应用限制到受权利要求书保护的实施方案的范围内的前提下，至少应当根据报告的数值的有效数位并通过惯常的四舍五入法来解释每个数值参数。