[发明专利]气体阻隔性层叠体在审
申请号: | 201680026968.9 | 申请日: | 2016-05-16 |
公开(公告)号: | CN107531036A | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | 铃木信悟;的场太辅;城所雅子;野本晃 | 申请(专利权)人: | 三井化学东赛璐株式会社 |
主分类号: | B32B27/34 | 分类号: | B32B27/34;B05D5/00;B05D7/24;B32B9/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 阻隔 层叠 | ||
1.气体阻隔性层叠体,其具有:
基材层;和
气体阻隔性聚合物层,所述气体阻隔性聚合物层设置于所述基材层的至少一面上,并且通过对包含多元羧酸及多胺化合物的混合物进行加热而形成,厚度为0.01μm以上0.45μm以下。
2.如权利要求1所述的气体阻隔性层叠体,其在所述基材层与所述气体阻隔性聚合物层之间还具有底涂层,
所述底涂层由选自聚氨酯系树脂、聚酯系树脂、噁唑啉系树脂、丙烯酸系树脂中的一种或两种以上构成。
3.如权利要求1或2所述的气体阻隔性层叠体,其在所述基材层与所述气体阻隔性聚合物层之间还具有无机物层。
4.如权利要求3所述的气体阻隔性层叠体,其中,所述无机物层由选自由氧化硅、氧化铝、铝组成的组中的一种或两种以上的无机物构成。
5.如权利要求4所述的气体阻隔性层叠体,其中,所述无机物层是由氧化铝构成的氧化铝层。
6.如权利要求5所述的气体阻隔性层叠体,其中,
将对所述氧化铝层进行荧光X射线分析而得到的、铝的Kα射线强度设为A,并且将对由铝形成且除了未导入氧以外在与所述氧化铝层相同的制造条件下得到的铝层进行荧光X射线分析而得到的、所述铝的Kα射线强度设为B时,
A/B为0.50以上0.75以下。
7.如权利要求1至6中任一项所述的气体阻隔性层叠体,其中,(所述混合物中的所述多元羧酸中包含的-COO-基的摩尔数)/(所述混合物中的所述多胺化合物中包含的氨基的摩尔数)=100/(超过22)、100/(99以下)。
8.如权利要求1至7中任一项所述的气体阻隔性层叠体,其中,所述多元羧酸为选自聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、丙烯酸与甲基丙烯酸的共聚物中的一种或两种以上的聚合物。
9.如权利要求1至8中任一项所述的气体阻隔性层叠体,其中,在所述气体阻隔性聚合物层的红外线吸收光谱中,将1493cm-1以上1780cm-1以下的吸收带范围内的总峰面积设为A、将1598cm-1以上1690cm-1以下的吸收带范围内的总峰面积设为B时,
以B/A表示的酰胺键的面积比率为0.370以上。
10.如权利要求9所述的气体阻隔性层叠体,其中,在所述红外线吸收光谱中,将1690cm-1以上1780cm-1以下的吸收带范围内的总峰面积设为C时,
以C/A表示的羧酸的面积比率为0.500以下。
11.如权利要求9或10所述的气体阻隔性层叠体,其中,在所述红外线吸收光谱中,将1493cm-1以上1598cm-1以下的吸收带范围内的总峰面积设为D时,
以D/A表示的羧酸盐的面积比率为0.450以下。
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