[发明专利]气体阻隔性层叠体

说明书

技术领域

本发明涉及气体阻隔性层叠体。

背景技术

一般而言，作为气体阻隔性材料，在基材层上设置有作为气体阻隔层的无机物层的层叠体已在被使用。

然而，该无机物层对摩擦等的耐受性差，这样的气体阻隔性层叠体在后续加工的印刷时、层压时或内容物的填充时，存在因摩擦、拉伸而在无机物层中产生裂纹、气体阻隔性降低的情况。

因此，作为气体阻隔性材料，也在使用将有机物层用作气体阻隔层的层叠体。

作为将有机物层用作气体阻隔层的气体阻隔性材料，已知有具有由包含多元羧酸(polycarboxylic acid)及多胺化合物的混合物形成的气体阻隔层的层叠体。

作为与这样的气体阻隔性层叠体相关的技术，例如，可举出专利文献1(日本特开2005-225940号公报)及专利文献2(日本特开2014-184678号公报)中记载的技术。

专利文献1中公开了一种气体阻隔膜，其具有由多元羧酸与多胺及/或多元醇进行制膜而成的气体阻隔层，其中，多元羧酸的交联度为40％以上。

专利文献2中公开了一种气体阻隔膜，其是在由塑料膜形成的基材的至少一面由下述混合物进行制膜而成的，所述混合物是以多胺/多元羧酸成为12.5/87.5～27.5/72.5、且(多胺+多元羧酸)/薄片状无机物成为100/(5～50)的方式进行混合而成的。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-225940号公报

专利文献2：日本特开2014-184678号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

根据本申请发明人的研究可知，对于专利文献1、2所记载的这样的层叠膜而言，虽然具有由多胺化合物与多元羧酸形成的酰胺交联结构所带来的优异气体阻隔性，但对外部变形的追随性并不充分。因此，为了发挥气体阻隔性这样的性能，有时也必须限定用途。

本发明是鉴于上述情况而做出的，提供一种气体阻隔性能优异、且基材层与具有酰胺交联结构的气体阻隔性聚合物层的层间粘接性也优异的气体阻隔性层叠体。

用于解决课题的手段

根据本发明，提供如下所示的气体阻隔性层叠体。

[1]

气体阻隔性层叠体，其具有：

基材层；和

气体阻隔性聚合物层，上述气体阻隔性聚合物层设置于上述基材层的至少一面上，并且通过对包含多元羧酸及多胺化合物的混合物进行加热而形成，厚度为0.01μm以上0.45μm以下。

[2]

如上述[1]所述的气体阻隔性层叠体，其在上述基材层与上述气体阻隔性聚合物层之间还具有底涂层，

上述底涂层由选自聚氨酯系树脂、聚酯系树脂、噁唑啉系树脂、丙烯酸系树脂中的一种或两种以上构成。

[3]

如上述[1]或[2]所述的气体阻隔性层叠体，其在上述基材层与上述气体阻隔性聚合物层之间还具有无机物层。

[4]

如上述[3]所述的气体阻隔性层叠体，其中，上述无机物层由选自由氧化硅、氧化铝、铝组成的组中的一种或两种以上的无机物构成。

[5]

如上述[4]所述的气体阻隔性层叠体，其中，上述无机物层是由氧化铝构成的氧化铝层。

[6]

如上述[5]所述的气体阻隔性层叠体，其中，将对上述氧化铝层进行荧光X射线分析而得到的、铝的Kα射线强度设为A，并且将对由铝形成且除了未导入氧以外在与上述氧化铝层相同的制造条件下得到的铝层进行荧光X射线分析而得到的、上述铝的Kα射线强度设为B时，

A/B为0.50以上0.75以下。

[7]

如上述[1]至[6]中任一项所述的气体阻隔性层叠体，其中，(上述混合物中的上述多元羧酸中包含的-COO-基的摩尔数)/(上述混合物中的上述多胺化合物中包含的氨基的摩尔数)＝100/(超过22)、100/(99以下)。

[8]

如上述[1]至[7]中任一项所述的气体阻隔性层叠体，其中，上述多元羧酸为选自聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、丙烯酸与甲基丙烯酸的共聚物中的一种或两种以上的聚合物。

[9]