[发明专利]防反射膜、光学元件以及光学系统在审

专利信息
申请号: 201680030708.9 申请日: 2016-05-23
公开(公告)号: CN107615101A 公开(公告)日: 2018-01-19
发明(设计)人: 园田慎一郎;安田英纪;大津晓彦 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115;B32B7/02;B32B9/00;G02B15/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 刘文海
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 反射 光学 元件 以及 光学系统
【权利要求书】:

1.一种防反射膜,其具备:

电介质层,具有暴露于空气中的表面,且折射率为1.35以上且1.51以下;

金属层,具有与该电介质层的界面,含有银,且厚度为5nm以下;以及

中间层,具有与该金属层的界面,且由具有相对较高折射率的高折射率层和具有相对较低折射率的低折射率层交替层叠共4层以上而成的层叠体构成,

所述防反射膜在折射率为1.61以上的基材上从所述中间层侧开始层叠。

2.根据权利要求1所述的防反射膜,其中,

所述电介质层由氧化硅或氟化镁构成。

3.一种防反射膜,其具备:

电介质层,具有暴露于空气中的表面,且由氟化镁构成;

金属层,具有与该电介质层的界面,含有银,且厚度为5nm以下;以及

中间层,具有与该金属层的界面,且由具有相对较高折射率的高折射率层和具有相对较低折射率的低折射率层交替层叠共3层以上而成的层叠体构成,

所述防反射膜在折射率为1.61以上且1.74以下的基材上从所述中间层侧开始层叠。

4.一种防反射膜,其具备:

电介质层,具有暴露于空气中的表面,且由氟化镁构成;

金属层,具有与该电介质层的界面,含有银,且厚度为5nm以下;以及

中间层,具有与该金属层的界面,且由具有相对较高折射率的高折射率层和具有相对较低折射率的低折射率层交替层叠共2层以上而成的层叠体构成,

所述防反射膜在折射率为1.61以上且1.66以下的基材上从所述中间层侧开始层叠。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的防反射膜,其中,

所述高折射率层是具有比所述基材的折射率高的折射率的层,

所述低折射率层是具有比所述基材的折射率低的折射率的层。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的防反射膜,其中,

构成所述中间层的所述层叠体为16层以下。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的防反射膜,其中,

所述金属层由银合金构成,所述银合金含有除银以外的至少1种以上的金属元素。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的防反射膜,其中,

在所述金属层和所述中间层之间,具备由除银以外的金属元素构成的锚固层。

9.一种光学元件,其在基材上具备权利要求1至8中任一项所述的防反射膜而成。

10.一种光学系统,其具备在最表面配置权利要求9所述的光学元件的所述防反射膜而成的组透镜。

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