[发明专利]防反射膜、光学元件以及光学系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种防反射膜、具备防反射膜的光学元件以及具备该光学元件的光学系统。

背景技术

以往，在使用玻璃以及塑料等透光性部件的透镜(透明基材)中，为了减少基于表面反射的透射光的损失而在光入射面上设置有防反射膜。

作为相对于可见光显示出极低的反射率的防反射膜，已知有在最上层具备比可见光的波长短的间距的微细凹凸结构、或形成有大量孔而成的多孔结构的结构(专利文献1以及2等)。

若使用将微细凹凸结构或多孔结构等结构层作为低折射率层而在最上层上具有的防反射膜，则在可见光区域的宽波长频带内能够获得0.2％以下的超低反射率。然而，这种防反射膜由于在表面上具有微细结构，因此存在机械强度小，且极不耐于擦拭等外力这种缺点。因此，在作为照相机透镜等而使用的组透镜的最表面(第1透镜表面以及最终透镜背面)等用户所接触的位置上，无法实施具备结构层的超低反射率涂层。

另一方面，作为在表面不具备结构层的防反射膜，在专利文献3和专利文献4等中提出有包含在电介质膜的层叠体中含有银(Ag)的金属层的防反射膜。

在专利文献3中公开有一种光学层叠体，所述光学层叠体具备：电介质层，具有暴露于空气中的表面；金属层，具有与电介质层的界面，且至少含有Ag；以及层叠体，具有与金属层的界面，且包含1个以上的低折射率层和1个以上的高折射率层，所述光学层叠体在460nm以上且650nm以下的波长区域中的反射率为0.1％以下。

并且，在专利文献4中提出有一种防反射膜，所述防反射膜由从基材侧依次为比较高折射率的透明膜、含有银的膜、以及比较低折射率的透明膜的层叠体构成，且相对于550nm的入射光的膜面反射率为0.6％以下。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-159720号公报

专利文献2：日本特开2005-316386号公报

专利文献3：日本特开2013-238709号公报

专利文献4：日本专利第4560889号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

然而，在专利文献3中，关于形成防反射膜的基材的折射率完全没有提及。另一方面，在专利文献4中，在由碱石灰玻璃构成的基材上设置防反射膜而实现了0.2％以下的反射率。

本发明人等使形成专利文献3中公开的光学层叠体的基材的折射率从1.49至1.61为止每隔0.01进行改变，并对于在各折射率的基材上具备专利文献3的实施例中所记载的层结构的防反射膜的情况进行了研究。从基材至暴露于作为介质的空气的层为止的层结构设为如下述表1所示。利用Essential Macleod(Thin Film Center Inc.制)来进行膜厚的最佳化以及反射率的波长依赖性(反射光谱)的计算。在此，关于Ag的折射率，利用“Handbook of Optical Constants of Solids.1985，Academic Press Inc.p.353”(以下设为“参考文献1”。)中所记载的折射率(表中标记为Ag(1)。)。

[表1]