[发明专利]气柜

权利要求书

1.一种气体供应系统，其包括：

至少一个气体供应罐，其易于在涉及从所述罐施配的气体的压力减小的施配操作中冷却；

监测系统，其经配置以检测压力减小到指示所述罐的排空的压力且终止所述罐的施配操作；及

增温系统，其经配置以在所述罐的施配操作终止之后将所述罐增温，使得所述罐被增温到使得所述罐中的剩余气体的压力被增加到高于指示所述罐的排空的所述压力的程度，以借此使得能够重新开始所述罐的施配操作；

其中所述气体供应罐容纳作为用于将在施配操作中由所述罐供应的气体的存储介质的吸附剂，所述施配操作包括气体从所述吸附剂解吸附；且

其中增温温度为增温到从35℃到50℃的范围内的温度。

2.根据权利要求1所述的气体供应系统，其包括众多所述气体供应罐，所述众多所述气体供应罐经操作地布置使得在所述监测系统终止第一罐的施配操作时，第二罐起始施配操作以确保气体供应的连续性。

3.根据权利要求1到2中任一权利要求所述的气体供应系统，其中所述至少一个气体供应罐安置于气柜中。

4.根据权利要求3所述的气体供应系统，其包括所述气柜中的多个气体供应罐，所述多个气体供应罐与用于混合从所述多个气体供应罐中的两者或更多者施配的气体的混合歧管操作地布置。

5.一种从至少一个气体供应罐供应气体的方法，所述气体供应罐易于在涉及从所述罐施配的气体的压力减小的施配操作中冷却，所述方法包括：

监测从所述罐施配的气体的压力；

在检测到压力减小到指示所述罐的排空的压力之后，终止所述罐的施配操作；及

在终止所述罐的施配操作之后将所述罐增温，使得所述罐被增温到使得所述罐中的剩余气体的压力被增加到高于指示所述罐的排空的所述压力的程度，以借此使得能够重新开始所述罐的施配操作；

其中所述气体供应罐容纳作为用于将在施配操作中由所述罐供应的气体的存储介质的吸附剂，所述施配操作包括气体从所述吸附剂解吸附；且

其中增温温度为增温到从35℃到50℃的范围内的温度。