[发明专利]气柜

说明书

本发明描述用于将气体递送到气体利用处理工具的气体供应系统及方法，所述气体利用处理工具例如是用于制造半导体产品、平板显示器、太阳能面板等的气体利用工具。所述气体供应系统可包括其中布置有基于吸附剂的气体供应罐及/或内部压力调节式气体供应罐的气柜，且描述可安置于所述气柜中或以独立方式操作的气体混合歧管。在一个方面中，描述气体供应系统，其中在施配操作的压控终止之后，为了进行施配操作以实现在此终止之后所述罐中剩余的气体的利用，处理易于在涉及气体供应压力的减小时冷却的罐。

相关申请案的交叉参考

依据35USC 119的规定主张2015年5月17日以约瑟夫R.德斯普莱斯(JosephR.Despres)、巴里路易斯钱伯斯(Barry Lewis Chambers)、约瑟夫D.斯威尼(JosephD.Sweeney)、理查德S.拉伊(Richard S.Ray)及史蒂文E.毕晓普(Steven E.Bishop)的名义提出申请的标题为“气柜(GAS CABINETS)”的第62/162,777号美国临时专利申请案的权益。第62/162,777号美国临时专利申请案的揭示内容特此出于所有目的以全文引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及气体混合系统及方法，且涉及具有为气体利用应用(例如半导体产品、平板显示器及光伏面板的制造)供应气体的功效的气柜。

背景技术

在若干种工业应用中使用气体供应罐时，将气体供应罐部署于作为外壳的气柜中是通常做法，在所述外壳中所述罐联接到用于将气体递送到下游气体利用工具的流路。在此方面中气柜是容纳结构，其中除用于将从气柜中的气体供应罐施配的气体运输到下游工具的流路外，监测与控制仪器也可设置于所述容纳结构中以确保从气柜以所要温度、压力、流率及组成供应气体。气柜还可配置有进排气组合件，所述进排气组合件用于使通风气体流动穿过气柜的内部体积，使得可将从气柜中的气体供应罐或从流路及联接件的任何气体泄露从气柜吹扫出且传递到处理设施或其它处置装置。

由于气柜在供应用于工业处理的气体中的广泛使用，因此此项技术中仍继续寻求气柜设计、功能性、操作及使用方面的改善。

发明内容

本发明涉及气体供应系统及方法以及经配置以容纳用于将气体递送到气体利用工具的气体供应罐的气柜。

在一个方面中，本发明涉及一种气体供应系统，其包括：至少一个气体供应罐，其易于在涉及从所述罐施配的气体的压力减小的施配操作中冷却；监测系统，其经配置以检测压力减小到指示所述罐的排空的压力且终止所述罐的施配操作；及增温系统，其经配置以在所述罐的施配操作终止之后将所述罐增温，使得所述罐被增温到使得所述罐中的剩余气体的压力被增加到高于指示所述罐的排空的所述压力的程度，以借此使得能够重新开始所述罐的施配操作。

在另一方面中，本发明涉及一种用于递送含有相同掺杂剂物种的不同共流气体的气体供应系统，其中所述共流气体是从选自基于吸附剂的气体供应罐、内部压力调节式气体供应罐及前述罐的组合当中的相应罐递送。

在又一方面中，本发明涉及一种气体混合系统，其包括：气体混合歧管，其具有多个气体输入及多个经混合气体输出；监测与控制系统，其经配置以操作所述气体混合歧管且经由信号传输线从所述气体混合歧管接收反馈；及至少一个远程光纤链路，其将所述监测与控制系统和至少一个远程输入/输出接口单元互连。

本发明的又一方面涉及一种从至少一个气体供应罐供应气体的方法，所述气体供应罐易于在涉及从所述罐施配的气体的压力减小的施配操作中冷却，所述方法包括：监测从所述罐施配的气体的压力；在检测到压力减小到指示所述罐的排空的压力之后，终止所述罐的施配操作；及在终止所述罐的施配操作之后将所述罐增温，使得所述罐被增温到使得所述罐中的剩余气体的压力被增加到高于指示所述罐的排空的所述压力的程度，以借此使得能够重新开始所述罐的施配操作。