[发明专利]光学膜及含有其的光学叠层体有效
| 申请号： | 201680036899.X | 申请日： | 2016-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN107710035B | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 森田阳明 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;B32B7/023;C03C27/12;G02B5/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 含有 叠层体 | ||
1.一种光学膜，其具有基材以及反射层，
所述基材和所述反射层在150℃下的储能模量(E’)之差的绝对值为0.05GPa以上，所述储能模量(E’)的测定条件为：依据JIS K7244-1:1998，拉伸模式，升温速度为5℃/min，频率为10Hz，
所述光学膜在150℃下的损耗因数(tanδ)的值为0.12～0.20，所述损耗因数(tanδ)的测定条件为：依据JIS K7244-1:1998，拉伸模式，升温速度为5℃/min，频率为10Hz。
2.如权利要求1所述的光学膜，其中，
所述基材在150℃下的损耗因数(tanδ)的值为0.12～0.45，所述损耗因数(tanδ)的测定条件为：依据JIS K7244-1:1998，拉伸模式，升温速度为5℃/min，频率为10Hz。
3.如权利要求1或2所述的光学膜，其中，
所述基材在150℃下的储能模量(E’)的值为0.01GPa以上，且比所述反射层在150℃下的储能模量(E’)的值小，所述储能模量(E’)的测定条件：依据JIS K7244-1:1998，拉伸模式，升温速度为5℃/min，频率为10Hz。
4.如权利要求1所述的光学膜，其中，
所述基材在150℃的环境下放置30分钟后的热收缩率为2.0～10.0％。
5.如权利要求1所述的光学膜，其中，
所述基材为树脂膜。
6.如权利要求1所述的光学膜，其中，
所述反射层在150℃下的储能模量(E’)的值为2.00GPa～13.50GPa，所述储能模量(E’)的测定条件为：依据JIS K7244-1:1998，拉伸模式，升温速度为5℃/min，频率为10Hz。
7.如权利要求1所述的光学膜，其中，
所述反射层在150℃的环境下放置30分钟后的热收缩率为0.5～5.0％。
8.如权利要求1所述的光学膜，其中，
所述反射层为高折射率层及低折射率层交替叠层而成的介电多层膜。
9.如权利要求8所述的光学膜，其中，
所述高折射率层以及所述低折射率层的至少之一含有水溶性粘合剂树脂。
10.如权利要求1所述的光学膜，其中，
所述基材的膜厚在所述光学膜整体的膜厚中占86.5％以上的比例。
11.如权利要求1所述的光学膜，其中，
所述反射层为红外反射层。
12.一种光学叠层体，其含有权利要求1～11中任一项所述的光学膜及至少1个基体。
13.如权利要求12所述的光学叠层体，其中，
所述基体具有曲面。
14.如权利要求12或13所述的光学叠层体，其为夹层玻璃。
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