[发明专利]磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板和磁记录介质

说明书

以摩尔％表示计，磁记录介质基板用玻璃的SiO₂含量为56～75％，Al₂O₃含量为0.1～10％，Li₂O含量为0～2％，Na₂O和K₂O的总含量为3～15％，MgO、CaO和SrO的总含量为14～35％，Ti氧化物含量为0.20～2.50％，Sn氧化物和Ce氧化物的总含量为0.10～1.55％，Sb氧化物含量为0～0.02％，Li₂O含量相对于SiO₂和Al₂O₃的总含量的摩尔比{Li₂O/(SiO₂+Al₂O₃)}为0.02以下，且玻璃化转变温度为600℃以上。

关联申请的相互参照

本申请要求2015年6月30日提交的日本特愿2015-132038号的优先权，其全部记载作为特别地以公开的方式援引在本说明书中。

技术领域

本发明涉及磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板和磁记录介质。

背景技术

以往，作为硬盘等磁记录介质用的基板(磁记录介质基板)，广泛使用铝制的基板。但是，近年来对于硬盘驱动器来说，除了耐冲击性外，还伴随有磁记录介质的高密度记录化与薄型化，提高磁记录介质基板的表面平滑性与薄型化的要求变得愈发严格。因而，用表面硬度、刚性差的铝制基板来应对存在限度。因此，目前的主流是开发玻璃制的磁记录介质基板(例如参见专利文献1～4)。专利文献1～4的全部记载内容特别地以公开的方式援引于此。

专利文献1：日本专利第5658030号

专利文献2：WO2011/019010A1

专利文献3：日本专利第5542953号

专利文献4：日本专利第4691135号

发明内容

近年来，以实现磁记录介质的进一步高密度记录化为目的，正在开发形成了包含磁各向异性能高的磁性材料的磁记录层的玻璃基板。为了形成包含这样的磁性材料的磁记录层，通常在高温下进行成膜、或者在成膜后以高温进行热处理(例如参见专利文献2、3)。因此，对于这样的玻璃基板来说，要求具有可承受高温处理的高耐热性、即高玻璃化转变温度(下文中也记为“Tg”)。

另一方面，对于磁记录介质基板用的玻璃还要求抑制气泡的产生。这基于下述原因。伴随着近年来的高密度记录化的发展，希望使用于数据的写入/读取的磁头(磁头)与磁记录介质表面的距离(称为“飞行高度”)变小。但是，若磁记录介质用的玻璃基板表面存在气泡所引起的凹凸，则该凹凸会被反映到磁记录介质的表面，从而磁记录介质的表面平滑性降低。若使磁头接近表面平滑性差的磁记录介质表面，则磁头接触磁记录介质表面而可能使磁头发生破损，因此为了防止接触而不得不确保一定程度的飞行高度。从上述方面出发，对于磁记录介质基板来说，为了使飞行高度变小，要求减少玻璃基板的气泡以制作具有高表面平滑性的磁记录介质。玻璃中的气泡可以通过使用起到在玻璃熔融中除去气泡的作用的成分(称为“澄清剂”)来减少。以往，作为澄清剂，广泛使用Sb氧化物(例如Sb₂O₃)，但Sb氧化物是对环境产生负担的成分，因此应控制其使用。作为澄清剂，专利文献1～4中还提出了使用Sn氧化物或Ce氧化物，但为了兼顾耐热性的提高(高Tg化)与气泡减少，要求进一步改善。

本发明的一个方式的目的在于提供一种耐热性高且气泡减少的磁记录介质基板用玻璃。

本发明的一个方式涉及一种磁记录介质基板用玻璃，其中，以摩尔％表示计，

SiO₂含量为56～75％，

Al₂O₃含量为0.1～10％，