[发明专利]低相对湿度净化系统

权利要求书

1.一种用于对装置进行净化的净化设备，所述净化设备包括：

净化室；

雾化喷嘴，其与包含水和过氧乙酸的净化流体流体连通，所述雾化喷嘴被配置来将所述净化流体作为蒸气供应到所述净化室；以及

控制系统，其被配置来控制所述净化流体进入所述净化室的流动速率，使得所述净化室内的相对湿度贯穿完整的化学品注入循环维持在0％与45％之间，并且其中所述控制系统被配置来控制包括所述化学品注入循环的净化循环以实现至少10的负三次方的无菌保证水平。

2.如权利要求1所述的净化设备，其中所述净化循环被定义为从装置放置在所述净化室中时到所述装置从所述净化室移除时。

3.如权利要求1所述的净化设备，其中所述控制系统贯穿所述净化循环将所述净化室内的所述相对湿度维持在约20％至约45％。

4.如权利要求1所述的净化设备，其中所述控制系统贯穿所述化学品注入循环将所述净化室内的所述相对湿度维持在低于20％。

5.如权利要求1所述的净化设备，其中贯穿所述净化循环将所述净化室维持在低于30℃。

6.如权利要求1所述的净化设备，其中贯穿所述净化循环将所述净化室维持在约30℃至约55℃。

7.如权利要求1所述的净化设备，其还包括用于测量所述净化室内的相对湿度的传感器。

8.如权利要求1所述的净化设备，其中所述系统控制器被配置来控制所述净化室、化学品分散组件和压力控制组件，以便：

在将所述净化流体添加到所述净化室之前，在第一抽空步骤中将所述净化室中的压力降低到亚大气压范围内；

在第二抽空步骤中从所述净化室去除所述净化流体；并且

在从所述净化室去除所述净化流体之后，使所述净化室通风到大气压。

9.如权利要求1所述的净化设备，其中控制所述净化流体进入所述净化室的流动速率包括：控制所述净化流体进入所述净化室的第一流动速率和控制所述净化流体进入所述净化室的第二流动速率，所述第二流动速率不同于所述第一流动速率，其中所述净化室内的所述相对湿度在以所述第一流动速率和所述第二流动速率添加所述净化流体期间维持在0％与45％之间。

10.如权利要求1所述的净化设备，其中所述控制系统被配置来贯穿完整的化学品注入循环将所述净化室内部的所述相对湿度维持在或低于17％。

11.如权利要求1所述的净化设备，其中所述控制系统被配置来贯穿完整的化学品注入循环将所述净化室内部的所述相对湿度维持在或低于17％并且将所述装置暴露于净化流体不多于三分钟。

12.一种对装置进行净化的方法，所述方法包括：

将净化流体作为蒸气分散到包含要净化的装置的净化室中，所述净化流体包含过氧乙酸和水；

控制所述净化流体的分散速率，使得所述净化室内的环境贯穿净化循环低于45％的相对湿度，所述净化循环被定义为从所述装置被放置在所述净化室中时到所述装置从所述净化室移除时，其中所述净化循环实现至少10的负三次方的无菌保证水平。

13.如权利要求12所述的方法，其中控制所述净化流体的所述分散速率，使得所述腔室内的所述环境贯穿所述净化循环在20％的相对湿度与45％的相对湿度之间。

14.如权利要求12所述的方法，其中控制所述净化流体的所述分散速率，使得所述环境在所述净化流体分散到所述净化室中之后低于20％的相对湿度。

15.如权利要求12所述的方法，其中控制所述净化流体的所述分散速率，使得所述环境在所述净化流体分散到所述净化室中之后是17％的相对湿度或更低。

16.如权利要求12所述的方法，其中控制所述净化流体的所述分散速率，使得所述环境在所述净化流体分散到所述净化室中之后是17％的相对湿度或更低并且所述要净化的装置暴露于所述净化流体少于三分钟。

17.如权利要求12所述的方法，其中在将所述净化流体分散到所述净化室中之前，所述净化室的所述相对湿度低于45％。

18.如权利要求12所述的方法，其中在将所述净化流体分散到所述净化室中之前，所述净化室中的压力是亚大气压。