[发明专利]Ag合金膜及其制造方法、Ag合金溅射靶以及层叠膜

说明书

本发明的Ag合金膜在0.1原子％以上且5.0原子％以下的范围内含有Ti，在合计0.1原子％以上且与Ti的总计成为10.0原子％以下的范围内含有选自Cu、Sn、Mg、In、Sb、Al、Zn、Ge、Ga中的至少一种元素，剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成，且Na、Si、V、Cr、Fe、Co的合计含量为100质量ppm以下。

技术领域

本发明涉及一种Ag合金膜及其制造方法、以及能够在其Ag合金膜的制造中所使用的Ag合金溅射靶。并且，本发明涉及一种包含Ag合金膜的层叠膜。

本申请主张基于2015年7月28日于日本申请的专利申请2015-148474号及2016年7月1日于日本申请的专利申请2016-131593号的优先权，并将其内容援用于此。

背景技术

由于Ag膜显示出较高的光的反射率及较低的电阻值，因此被用作有机EL器件、反射型液晶显示器、LED、太阳能电池等反射电极膜。并且，Ag膜通过进行薄膜化而显示出较高的透射率，因此进行薄膜化的Ag膜被用作触摸面板的半透明电极膜。由Ag膜形成的反射电极膜及半透明电极膜有时还被用作与ITO膜或IZO膜等导电性氧化物的层叠膜。

如上所述，Ag膜具有光的反射率或进行薄膜化时的光的透射率较高的优异的光学特性及电阻值较低的优异的导电性。但是，已知Ag膜在热湿环境(高温高湿环境)下光学特性及导电性容易降低、与氯和硫的反应性较高即相对于氯和硫的耐蚀性较低、而且容易凝聚。因此，以Ag膜的光学特性及导电性长期稳定、提高耐蚀性、并且防止发生凝聚等为目的，研究在Ag膜中添加除了Ag以外的金属元素来作为Ag合金膜。

在专利文献1中记载有以长时间维持反射率等为目的而添加了各种金属元素的反射膜用Ag合金。在专利文献2中记载有以提高耐蚀性、反射率、电阻及耐热性等为目的而添加了各种金属元素的Ag合金。在专利文献3中记载有以提高反射率、防止发生因湿度或热而引起的Ag的凝聚等为目的而添加了各种金属元素的Ag合金反射膜。在专利文献4中记载有以使用于溅射时降低预溅射的次数并缩短预溅射时间为目的而添加了各种金属元素的Ag基合金溅射靶。

专利文献1：国际公开第2005/056849号

专利文献2：日本特开2004-2929号公报

专利文献3：日本特开2008-46149号公报

专利文献4：日本专利第4833942号公报

然而，如上所述，研究在Ag膜中添加除了Ag以外的金属元素来作为Ag合金膜，但通过添加金属元素，Ag所具有的优异的光学特性及导电性有时会受损。并且，在用作半透明电极膜的Ag合金膜中，为了提高透射率而要求进一步进行薄膜化，但若Ag膜的厚度变薄，尤其是成为厚度20nm以下的超薄膜，则存在凝聚而容易成为岛状的问题。

而且，若将Ag合金膜与ITO膜或IZO膜等的导电性氧化物进行层叠，则有时存在在Ag合金膜与导电性氧化膜之间产生电位差而促进Ag合金膜的腐蚀的问题。

发明内容

本发明是鉴于前述情况而完成的，其目的在于提供一种Ag合金膜及其制造方法、进一步提供能够使用于该Ag合金膜的制造中的Ag合金溅射靶，所述Ag合金膜在刚成膜后具有优异的光学特性及导电性，且即使在热湿环境下，其光学特性及导电性也不会大幅变化，并且不易产生基于氯和硫的腐蚀，而且即使设为超薄膜，也不易发生凝聚。而且，本发明以提供不易产生Ag合金膜的腐蚀的、Ag合金膜与透明导电性氧化物的层叠膜为目的。

为了解决上述课题，本发明的Ag合金膜的特征在于，在0.1原子％以上且5.0原子％以下的范围内含有Ti，在合计0.1原子％以上且与Ti的总计成为10.0原子％以下的范围内含有选自Cu、Sn、Mg、In、Sb、Al、Zn、Ge、Ga中的至少一种元素，剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成，且Na、Si、V、Cr、Fe、Co的合计含量为100质量ppm以下。