[发明专利]使用时间偏移曝光的非均匀图案校正

说明书

在此公开了一种图像校正应用程序，该图像校正应用程序涉及对制造处理中的基板施加无掩模光刻图案的能力。在此所描述的实施方式涉及软件应用程序平台，该软件应用程序平台利用基板的时间偏移曝光来维持校正非均匀图像图案的能力。应用程序利用时间延迟来将基板的后续部分暴露于可变化且交替脉冲频率的电磁辐射，以校正干涉图案并增加曝光均匀度。

技术领域

本公开内容的实施方式一般涉及无掩模光刻(maskless lithography)的领域。更具体而言，在此提供的实施方式涉及用于进行无掩模数字光刻制造处理的系统和方法。

背景技术

光刻被广泛应用于半导体装置和显示装置的制造中，例如液晶显示器(LCD)。大面积基板通常用在LCD的制造中。LCD，或平板，通常用于有源矩阵显示器，例如计算机、触摸面板装置、个人数字助理(PDA)、手机、电视监视器，等等。一般而言，平板可包括夹在两个板材之间的液晶材料层，该液晶材料层形成像素。当来自电源的功率横跨液晶材料施加时，通过液晶材料的光量可在像素位置处控制，致使图像产生。

微光刻技术通常被采用以产生电性特性，该电性特性被合并作为形成像素的液晶材料层的一部分。根据此技术，感光光刻胶(light-sensitive photoresist)通常被施加到基板的至少一个表面上。接着，图案产生器将感光光刻胶的选择区域暴露为具有光的图案的一部分，以造成选择区域中的光刻胶的化学变化，来制备这些选择区域以用于后续的材料去除和/或材料添加处理，以产生电性特征。

为了持续以消费者所要求的价格提供显示装置和其他装置给消费者，新的设备、方法和系统需要精准地且低成本地在基板(例如大面积基板)上产生图案。

如上述所说明地，利用数字光刻内的时间偏移曝光来校正非均匀图案的改进技术是需要的。更具体而言，本领域中所需要的是使用双频脉冲来改变频率的应用程序，其中曝光在该频率处撷取。

发明内容

本公开内容一般涉及软件应用程序平台，该软件应用程序平台在制造处理中利用基板的时间偏移曝光来维持校正非均匀图像图案的能力。应用程序利用时间延迟来将基板的后续部分暴露于可变化且交替脉冲频率的电磁辐射，以校正干涉图案并增加曝光均匀度。

在一个实施方式中，公开了用于校正基板上的非均匀图像图案的方法。该方法可包括：将基板的第一部分暴露于电磁辐射的第一脉冲组合。第一脉冲组合可包括第一脉冲曝光和第二脉冲曝光。第一脉冲曝光和第二脉冲曝光在时间上可由第一时间间隔分离。该方法可进一步包括：将基板的第二部分暴露于电磁辐射的第二脉冲组合。第二脉冲组合可包括第三脉冲曝光和第四脉冲曝光。第三脉冲曝光和第四脉冲曝光在时间上可由第一时间间隔的约+30％和约-30％之间分离。电磁辐射的第一脉冲组合和电磁辐射的第二脉冲组合在时间上可由第二时间间隔分离。

在另一个实施方式中，公开了用于校正基板上的非均匀图像图案的计算机系统。计算机系统可包括处理器和储存指令的存储器，当所述指令由处理器执行时，造成计算机系统将基板的第一部分暴露于电磁辐射的第一脉冲组合，并将基板的第二部分暴露于电磁辐射的第二脉冲组合。第一脉冲组合可包括第一脉冲曝光和第二脉冲曝光。第一脉冲曝光和第二脉冲曝光在时间上可由第一时间间隔分离。第二脉冲组合可包括第三脉冲曝光和第四脉冲曝光。第三脉冲曝光和第四脉冲曝光在时间上可由第一时间间隔的约+30％和约-30％之间分离。电磁辐射的第一脉冲组合和电磁辐射的第二脉冲组合在时间上可由第二时间间隔分离。