[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

说明书

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，将含水的冲洗液供给至被保持为水平的基板之后，使含有异丙醇的含IPA液供给至已附着有冲洗液的基板。之后，将水分浓度较低的含IPA液供给至基板。被供给至基板的含IPA液为了被再次供给至基板而被回收。

技术领域

本发明是关于一种处理基板的基板处理装置及基板处理方法。在成为处理对象的基板中，例如包括有半导体晶圆(wafer)、液晶显示设备用基板、电浆显示器(plasmadisplay)用基板、FED(Field Emission Display：场发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩膜(ph oto mask)用基板、陶瓷(ceramic)基板、太阳能电池用基板等。

背景技术

在专利文献1中，已揭示一种使用IPA(异丙醇(isopropyl alcohol))的蒸气来使水洗后的被干燥物干燥的蒸气干燥装置。该蒸气干燥装置具备：膜分离装置，用于将水从被供给至半导体晶圆等被干燥物的IPA中分离。在该蒸气干燥装置中，以被设置于被干燥物之下方的蒸气产生部来使IPA蒸发，且使IPA的蒸气接触水洗后的被干燥物。在被干燥物的表面凝结后的I PA的液体，与已附着于被干燥物的水分一起流掉，且掺杂在位于蒸气产生部的IPA的液体中。利用被配置于蒸气产生部的膜分离装置将IPA中所含的水分去除。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平5-90240号公报。

发明内容

发明要解决的问题

在专利文献1中，已揭示如下内容：为了将水分浓度较低的IPA的蒸气供给至被干燥物，而去除使用后的IPA的液体中所含的水分。然而，有关有效率地供给水分浓度较低的IPA的内容则并未揭示于专利文献1中。

换句话说，即便IPA的供给开始时的IPA中之水分浓度较高，只要IPA的供给结束时的IPA中之水分浓度较低，则仍可以降低供给IPA后残留于被干燥物的水分的含量，且可以抑制或防止因水渍(watermark)或图案崩塌(p attern collapse)等的残留水分所引起的异常的发生。再者，比起从最初就供给水分浓度较低的IPA的情况，还可以降低水分浓度较低的IPA的使用量。

然而，在专利文献1中，虽然已揭示去除IPA的液体中所含的水分的内容，但是并未揭示有关在IPA的蒸气被供给至被干燥物时，使IPA中的水分浓度随着时间的经过而降低的内容。在专利文献1中，是从IPA的供给开始时就将水分浓度较低的IPA供给至基板。

于是，本发明的目的之一是在于降低IPA的消耗量的同时，将水分浓度较低的IPA有效率地供给至基板。

用于解决问题的手段

本发明的一个实施方式，一种将含有异丙醇的含IPA液供给至被保持为水平的基板的基板处理装置，包括：基板保持单元，用于将基板保持为水平；冲洗液供给单元，用于将含有水的冲洗液供给至由所述基板保持单元保持的基板；第一IPA供给系统，用于将含IPA液供给至由所述基板保持单元保持的基板；第二IPA供给系统，用于将水分浓度比由所述第一IPA供给系统供给的含IPA液的水分浓度更低的含IPA液，供给至由所述基板保持单元保持的基板；回收单元，用于将被供给至由所述基板保持单元保持的基板的含IPA液，回收至所述第一IPA供给系统及第二IPA供给系统双方或所述第一IPA供给系统；以及，控制装置，用于控制所述冲洗液供给单元、所述第一IPA供给系统、所述第二IPA供给系统、及所述回收单元；所述控制装置执行如下步骤：冲洗液供给步骤，用于使所述冲洗液供给单元将冲洗液供给至所述基板；第一IPA供给步骤，在所述冲洗液供给步骤之后，使所述第一IPA供给系统将含IPA液供给至附着有冲洗液的所述基板；第二IPA供给步骤，在所述第一IPA供给步骤之后，使所述第二IPA供给系统将含IPA液供给至所述基板；以及，回收步骤，用于使所述回收单元回收在所述第一IPA供给步骤及所述第二IPA供给步骤中的至少一方被供给至所述基板的含IPA液。