[发明专利]节省存储器的经译码光错误校正有效

专利信息
申请号: 201680043443.6 申请日: 2016-07-20
公开(公告)号: CN107851310B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 尚顿·坎贝尔;斯蒂芬·迈克尔·维罗尔;卡林·米特科夫·阿塔纳索夫;奥维迪乌·克里斯蒂安·米克莱亚 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;H04N13/128;H04N13/111;G06T7/521;H04N13/161
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 赵腾飞
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 节省 存储器 译码 错误 校正
【说明书】:

发明公开用于校正由结构光系统产生的深度图中的错误的系统和方法。在一个方面中,方法包含接收有效码字和无效码字,有效空间码字包含于码本中。所述方法包含检测所述无效码字。所述方法包含检索在所述无效码字与所述码本中的所述有效码字之间具有最小汉明距离的候选有效码字的集合。所述方法包含估计所述无效码字的相邻位置的中值深度。所述方法包含将深度与每一候选码字相关联和选择具有最接近于所述深度估计的相关联深度的候选者。所述方法包含将与所述经选择候选码字相关联的所述深度指派到所述无效码字的所述位置。

技术领域

各种特征涉及主动深度感测,且更确切地说涉及用于在解译从结构光导出的深度信息时校正深度图中的由数据错误引起的间隙的高效存储器利用技术。

背景技术

成像装置是结构光主动感测系统,其包含发射器和接收器,所述发射器和接收器经配置以发射且接收对应于空间代码(或“码字”)的图案以产生指示场景中的一或多个对象与成像装置的距离的深度图。场景中的对象与发射器和接收器的越远,从所述对象反射的经接收码字与其原始位置(相较于经发射码字)就越接近,因为传出码字的传播路径与经反射传入码字的传播路径较平行。相反地,对象与发射器和接收器越接近,经接收码字与其在经发射码字中的原始位置就越远。因此,经接收码字的位置与对应的经发射码字的位置之间的差异可用于确定对象在场景中的深度。结构光主动感测系统可使用这些经确定深度以产生场景的深度图,所述深度图可以是场景的三维表示。许多应用程序可受益于确定场景的深度图,包含相机质量增强和计算机视觉。

每一码字可由强度值的行和列表示。举例来说,二进制空间代码可使用0和1来表示二进制图案,所述0和1对应于亮强度值和暗强度值。其它空间代码可使用多于两个不同强度值。经接收码字中的噪声可造成识别码字的错误,因为“有噪声的”码字不会被辨识为经发射的空间代码。举例来说,对于二进制代码,此噪声可造成经发射代码中的“1”被接收作为“0”,或反之亦然。此可在深度图中引起使用错位错误字的间隙或孔。不在所述点处运用未辨识的代码来估计深度,使得在深度图中产生“孔”。

“填充”孔的传统方法包含通过例如平均化围绕孔的深度基于相邻深度估计所述孔处的深度。此方法在所述孔在对象的边界处或接近对象的边界,或在存在深度的变化或不连续性的任一点处的情况下可能不提供良好结果。因此,需要用以当深度图中存在孔、甚至存在在具有变化或不连续性的点处的孔时产生深度的方法和系统。

发明内容

本公开的样本方面的概述如下。为了方便起见,本公开的一或多个方面在本文中可以被简单地参考为“一些方面”。

本文中所公开的方法和设备或装置各自具有若干方面,所述方面中的任何单一者均不独自负责其所需属性。在不限制(例如)如由以下权利要求书所表示的本公开的范围的情况下,现将简要地论述其较显著的特征。在考虑此论述之后,且尤其在阅读名为“具体实施方式”的章节之后,人们将理解所描述的特征如何提供包含从无法以其它方式识别的码字确定有可能的码字的高效方式的优点。

一个创新是一种用于校正由结构光系统产生的深度图中的错误的方法。在各种实施例中,所述方法可包含接收多个有效码字和至少一个无效码字。所述多个有效码字中的每一个包含于有效码字的码本中。码本不包含至少一个无效码字。每一码字表示结构光图像的像素的至少一个行和至少一个列。每一码字对应于深度图中的位置。所述方法可进一步包含检测无效码字。所述方法可进一步包含从存储器单元检索包含于码本中的候选码字的集合。每一候选码字距无效码字第一汉明距离。第一汉明距离是无效码字与码本中的码字之间的最小汉明距离。所述方法可进一步包含针对深度图的包含邻近于无效码字的位置的至少一个位置的多个位置确定深度估计。所述方法可进一步包含将深度与候选码字中的每一个相关联。所述方法可进一步包含选择具有最接近于深度估计的相关联深度的候选码字。所述方法可进一步包含将与经选择候选码字相关联的深度指派到无效码字的位置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通股份有限公司,未经高通股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680043443.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top