[发明专利]制备具有有机基氧基的有机硅化合物的方法有效
申请号: | 201680050241.4 | 申请日: | 2016-08-24 |
公开(公告)号: | CN107922623B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | M·普拉瑟;D·奥斯滕多夫 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学股份公司 |
主分类号: | C08G77/38 | 分类号: | C08G77/38;C08G77/395 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李振东;过晓东 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 具有 有机 基氧基 有机硅 化合物 方法 | ||
1.制备包含具有有机基氧基的有机硅化合物的组合物的方法,其特征在于,
将具有至少一个硅烷醇基的有机硅化合物(E)与包含至少两个有机基氧基的化合物(B)在存在选自胍类化合物的碱(C1)的情况下混合并进行反应,及
将具有P=O基的磷化合物(C3)混入如此获得的反应混合物,其特征在于,所述具有P=O基的磷化合物(C3)选自以下通式的磷化合物
O=PR16m(OR17)n(OH)3-(m+n) (VII),
其中
m等于0或1,
n等于0、1、2或3,
m+n等于1、2或3,
R16是任选取代的烃基,
R17可以相同或不同,并且是任选被杂原子间隔的任选取代的烃基、经由Si键结的三有机甲硅烷基、经由Si键结的有机烷氧基甲硅烷基,或者是经由P键结的磷酸酯基,
条件是:在R17是任选取代的烃基的情况下m等于0且n等于1或2。
2.根据权利要求1的方法,其特征在于,所述化合物(B)包含下式单元
R1c(OR2)d(OH)eSiO(4-c-d-e)/2 (II),
其中
R1是相同或不同的SiC键结的烃基,
R2可以相同或不同,并且是任选被氧原子间隔的烃基,
c是0、1、2或3,
d是0、1、2、3或4,及
e是0或1,
条件是:c+d+e之和≤4并且每个分子存在至少两个-OR2基。
3.根据权利要求1或2的方法,其特征在于,只有在第一步骤中组分(E)中至少50%的Si键结的OH基与组分(B)反应时才实施第二步骤。
4.根据权利要求1或2的方法,其特征在于,在第一步骤中及在第二步骤中均在最大程度上排除来自周围气氛的水的情况下混合单种组分。
5.包含具有有机基氧基的有机硅化合物(A)的组合物,其还包含由选自胍类化合物的碱(C1)及具有P=O基的磷化合物(C3)形成的盐(C),所述具有P=O基的磷化合物(C3)选自以下通式的磷化合物
O=PR16m(OR17)n(OH)3-(m+n) (VII),
其中
m等于0或1,
n等于0、1、2或3,
m+n等于1、2或3,
R16是任选取代的烃基,
R17可以相同或不同,并且是任选被杂原子间隔的任选取代的烃基、经由Si键结的三有机甲硅烷基、经由Si键结的有机烷氧基甲硅烷基,或者是经由P键结的磷酸酯基,
条件是:在R17是任选取代的烃基的情况下m等于0且n等于1或2。
6.根据权利要求5的组合物,其特征在于,其是通过缩合反应可交联的组合物,其包含
(A)具有有机基氧基的有机硅化合物,
(B)具有至少两个有机基氧基的有机硅化合物,
(C)盐,
任选存在的
(C1)碱,
(D)有机溶剂,
(F)催化剂,
(G)碳酸钙,
任选存在的
(G1)其他填料,
任选存在的
(H)增塑剂,及
任选存在的
(I)其他成分。
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