[发明专利]基板处理方法及基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理方法，包括：

基板旋转工序，一边将基板保持为水平一边使所述基板绕通过所述基板的铅垂的旋转轴线旋转；

下侧刷洗工序，与所述基板旋转工序并行进行，使刷子接触所述基板的下表面倾斜部；

中央侧喷洗工序，与所述下侧刷洗工序并行进行，一边使多个液滴撞击所述基板的上表面，一边使多个液滴对所述基板的上表面的撞击位置在所述基板的中央与所述基板的中间之间移动；

上侧刷洗工序，在所述下侧刷洗工序之后，与所述基板旋转工序并行进行，使所述刷子接触所述基板的上表面倾斜部；以及

外周侧喷洗工序，与所述上侧刷洗工序并行进行，一边使多个液滴撞击所述基板的上表面，一边使多个液滴对所述基板的上表面的撞击位置在所述基板的中间与所述基板的外周之间移动。

2.如权利要求1所述的基板处理方法，其中，所述中央侧喷洗工序及所述外周侧喷洗工序都是使多个液滴对所述基板的上表面的撞击位置仅向所述基板的外周侧移动的工序。

3.如权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，

还包括上冲洗液供给工序，所述上冲洗液供给工序与所述中央侧喷洗工序及所述外周侧喷洗工序并行进行，朝向所述基板的上表面中央部喷出冲洗液。

4.如权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，

所述外周侧喷洗工序是使多个液滴对所述基板的上表面的撞击位置在所述基板的上表面与所述刷子接触的区域的内侧，在所述基板的中间与所述基板的外周之间移动的工序。

5.一种基板处理装置，包括：

基板保持单元，一边将基板保持为水平，一边使所述基板绕通过所述基板的铅垂的旋转轴线旋转；

刷子，按压于所述基板；

刷子移动机构，使所述刷子移动至包括下接触位置及上接触位置的多个位置，所述下接触位置是所述刷子接触所述基板的下表面倾斜部的位置，所述上接触位置是所述刷子接触所述基板的上表面倾斜部的位置；

喷嘴，形成撞击所述基板的上表面的多个液滴；

喷嘴移动机构，通过使所述喷嘴移动，使多个液滴对所述基板的上表面的撞击位置在所述基板的中央与所述基板的外周之间移动；以及

控制装置，控制所述基板保持单元、所述刷子移动机构及所述喷嘴移动机构，

所述控制装置执行：

基板旋转工序，通过所述基板保持单元将所述基板保持为水平，且使所述基板绕所述旋转轴线旋转；

下侧刷洗工序，与所述基板旋转工序并行进行，通过所述刷子移动机构使所述刷子接触所述基板的下表面倾斜部；

中央侧喷洗工序，与所述下侧刷洗工序并行进行，一边使多个液滴撞击所述基板的上表面，一边通过所述喷嘴移动机构使多个液滴对所述基板的上表面的撞击位置在所述基板的中央与所述基板的中间之间移动；

上侧刷洗工序，在所述下侧刷洗工序之后，与所述基板旋转工序并行进行，通过所述刷子移动机构使所述刷子接触所述基板的上表面倾斜部；以及

外周侧喷洗工序，与所述上侧刷洗工序并行进行，一边使多个液滴撞击所述基板的上表面，一边通过所述喷嘴移动机构使多个液滴对所述基板的上表面的撞击位置在所述基板的中间与所述基板的外周之间移动。

6.如权利要求5所述的基板处理装置，其中，所述控制装置在所述中央侧喷洗工序及所述外周侧喷洗工序的各工序中，使多个液滴对所述基板的上表面的撞击位置仅向所述基板的外周侧移动。

7.如权利要求5或6所述的基板处理装置，其中，所述基板处理装置还包括上表面喷，所述上表面喷朝向所述基板的上表面中央部喷出冲洗液；

所述控制装置还执行上冲洗液供给工序，所述上冲洗液供给工序与所述中央侧喷洗工序及所述外周侧喷洗工序并行进行，在所述上冲洗液供给工序中使所述上表面喷朝向所述基板的上表面中央部喷出冲洗液。

8.如权利要求5或6所述的基板处理装置，其中，所述控制装置在所述外周侧喷洗工序中，通过所述喷嘴移动机构使多个液滴对所述基板的上表面的撞击位置，在所述基板的上表面与所述刷子接触的区域的内侧，在所述基板的中间与所述基板的外周之间移动。