[发明专利]高硅钢板及其制造方法

权利要求书

1.一种高硅钢板，以质量％计含有C：0.02％以下、P：0.02％以下、Si：4.5％～7.0％、Mn：0.01％～1.0％、Al：1.0％以下、O：0.01％以下、N：0.01％以下、S：0.010％以下，剩余部分由Fe和不可避免的杂质构成，

晶界的氧浓度即在晶界偏析的元素中的氧浓度为30at％以下，

且在钢板表面的α-Fe的{211}面的集聚度P(211)为15％以上，

这里，各晶面的集聚度P(hkl)由通过X射线衍射法得到的各峰的积分强度按以下公式进行定义：

P(211)＝p(211)/S×100(％)，

S＝p(110)/100+p(200)/14.93+p(211)/25.88+p(310)/7.68+p(222)/1.59+p(321)/6.27+p(411)/1.55，

p(hkl)：{hkl}面的X射线衍射峰的积分强度。

2.根据权利要求1所述的高硅钢板，其中，所述集聚度P(211)为20％以上。

3.根据权利要求1或2所述的高硅钢板，其中，所述钢板表层部的Si浓度与板厚中心部的Si浓度的差ΔSi为0.1％以上。

4.一种高硅钢板的制造方法，是权利要求1～3中任一项所述的高硅钢板的制造方法，

将以质量％计含有C：0.02％以下、P：0.02％以下、Si：5.5％以下、Mn：0.01％～1.0％、Al：1.0％以下、O：0.01％以下、N：0.01％以下、S：0.010％以下且剩余部分由Fe和不可避免的杂质构成的钢坯热轧，进行热轧板退火或者不进行热轧板退火，

接着，以使用Ra为0.5μm以下的辊进行最终冷轧的至少1道次的方式进行1次或夹着中间退火的2次以上的冷轧，

接着，进行包含气相渗硅处理的完工退火，在进行完工退火时，在非氧化性气氛下使露点为-20℃以下，或者使气氛中的H₂浓度为3vol％以上。

5.根据权利要求4所述的高硅钢板的制造方法，其中，在所述最终冷轧的道次间，进行至少1次的50℃以上、5分钟以上的时效处理。