[发明专利]蒸镀源和蒸镀装置以及蒸镀膜制造方法在审
申请号: | 201680054843.7 | 申请日: | 2016-09-20 |
公开(公告)号: | CN108026630A | 公开(公告)日: | 2018-05-11 |
发明(设计)人: | 井上智;川户伸一;二星学;小林勇毅 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/14 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;池兵 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸镀源 装置 以及 镀膜 制造 方法 | ||
1.一种蒸镀源,其特征在于,包括:
蒸镀颗粒射出部,该蒸镀颗粒射出部具有:各自具有至少1个蒸镀喷嘴且在垂直方向上彼此隔开间隔地叠层的多段的蒸镀喷嘴部;和设置在所述多段的蒸镀喷嘴部中的各段的蒸镀喷嘴之间的至少1个空间部,所述蒸镀颗粒射出部通过所述蒸镀喷嘴射出蒸镀颗粒;
真空排气单元,该真空排气单元具有至少1个真空泵,且与所述至少1个空间部连接;和
加热体,该加热体用于对所述多段的蒸镀喷嘴部中的所述各段的蒸镀喷嘴和设置在所述各段的蒸镀喷嘴之间的所述空间部的温度进行调整和控制,
能够对所述多段的蒸镀喷嘴部中的所述各段的蒸镀喷嘴和设置在所述各段的蒸镀喷嘴之间的所述空间部进行加热控制,使得所述多段的蒸镀喷嘴部中的所述各段的蒸镀喷嘴和设置在所述各段的蒸镀喷嘴之间的所述空间部成为相同的温度,
并且在真空排气时,在同一空间部具有同一内部压力,
所述空间部具有比夹着所述空间部的蒸镀喷嘴部中的蒸镀颗粒射出方向上游侧的蒸镀喷嘴部中的蒸镀喷嘴内的压力低、且比夹着所述空间部的蒸镀喷嘴部中的蒸镀颗粒射出方向下游侧的蒸镀喷嘴部中的蒸镀喷嘴内的压力高的压力。
2.如权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于:
包括蒸镀颗粒产生部,该蒸镀颗粒产生部对蒸镀材料进行加热而产生气态的所述蒸镀颗粒,
至少所述蒸镀颗粒射出部配置在真空室内,
所述空间部具有比所述蒸镀颗粒产生部的压力低、且比所述真空室内的压力高的压力。
3.如权利要求2所述的蒸镀源,其特征在于:
所述蒸镀颗粒射出部具有多个所述空间部,
所述空间部中,越靠蒸镀颗粒射出方向上游侧的空间部,具有越高的压力。
4.如权利要求3所述的蒸镀源,其特征在于:
所述真空排气单元具有与所述各空间部连接的多个配管,
所述各空间部分别经由与所述各空间部连接的配管与同一个所述真空泵连接,
与越靠蒸镀颗粒射出方向下游侧的空间部连接的配管,具有越大的截面积。
5.如权利要求4所述的蒸镀源,其特征在于:
与所述各空间部连接的多个配管经由共用的配管与同一个所述真空泵连接。
6.如权利要求3所述的蒸镀源,其特征在于:
所述多个空间部中最靠蒸镀颗粒射出方向下游侧的空间部与所述真空排气单元连接,除此以外的空间部与所述真空室内的空间连接。
7.如权利要求1~6中任一项所述的蒸镀源,其特征在于:
所述真空排气单元具有至少1个压力调整机构,
所述至少1个空间部经由所述压力调整机构与所述真空泵连接。
8.如权利要求2所述的蒸镀源,其特征在于:
还包括蒸镀颗粒扩散部,该蒸镀颗粒扩散部使由所述蒸镀颗粒产生部产生的蒸镀颗粒扩散而向所述蒸镀颗粒射出部供给。
9.如权利要求1~6中任一项所述的蒸镀源,其特征在于:
所述多段的蒸镀喷嘴部中最靠蒸镀颗粒射出方向上游侧的蒸镀喷嘴部的出口与入口的压力差为10~1000倍的范围内,除此以外的蒸镀喷嘴部的出口与入口的压力差为10~100倍的范围内。
10.如权利要求1~6中任一项所述的蒸镀源,其特征在于:
所述空间部的四周被外壁包围,在该外壁的一部分设置有多个与所述真空排气单元连接的开口部,
所述开口部设置在所述外壁的隔着所述空间部的中心点彼此相对的位置。
11.如权利要求1~6中任一项所述的蒸镀源,其特征在于:
所述各段的蒸镀喷嘴部中的蒸镀喷嘴各自在俯视时具有由一对长边和一对短边构成的矩形状,以各自的长边和短边的朝向一致的方式重叠地设置。
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