[发明专利]蒸镀源和蒸镀装置以及蒸镀膜制造方法

说明书

本发明提供材料利用效率比以往高的蒸镀源。蒸镀源(10)包括：蒸镀颗粒射出单元(30)，其具有：各自具有至少1个蒸镀喷嘴(32、52)且在垂直方向上彼此隔开间隔地叠层的多段的喷嘴单元、和设置在各段的蒸镀喷嘴之间的至少1个空间部(43)；和与至少1个空间部(43)连接的真空排气单元(14)。

技术领域

本发明涉及蒸镀源和包括该蒸镀源的蒸镀装置、以及使用该蒸镀装置制造(即，形成)蒸镀膜的蒸镀膜制造方法。

背景技术

包括利用有机材料或无机材料的电场发光(Electro luminescence；以下，记为“EL”)的EL元件的EL显示装置为全固体型，具有自发光性，低电压驱动、高速响应性优异，作为下一代显示器技术的候补进行了开发。

EL元件通常通过在减压下(高真空下)使蒸镀颗粒(被成膜成分) 经由形成有规定图案的开口的蒸镀掩模(也被称为阴影掩模)蒸镀在被成膜基板上的真空蒸镀法来成膜。此时，作为被成膜基板使用大型基板的大型基板成膜技术，不需要与大型的被成膜基板同等大小的蒸镀掩模和蒸镀源的扫描蒸镀法有前途。在扫描蒸镀法中，使用比被成膜基板小的蒸镀源，或者使用比被成膜基板小的蒸镀掩模和蒸镀源，进行一边扫描被成膜基板一边进行成膜的扫描成膜。

在利用真空蒸镀法的成膜中，在能够将内部保持在减压状态的真空室内，配置包括加热部和射出口的蒸镀源，在高真空下对蒸镀材料进行加热而使蒸镀材料蒸发或升华。由加热部加热而蒸发或升华后的蒸镀材料，作为蒸镀颗粒从射出口向外部射出，附着在被成膜基板上。

然而，由加热部加热而蒸发或升华后的蒸镀材料，在蒸镀源的内壁(即收容加热部的保持件的内壁)发生散射，或者蒸镀颗粒彼此反复碰撞后，从射出口射出。

由于这样的蒸镀颗粒的散射，从射出口射出的蒸镀颗粒向各个方向射出。

在真空蒸镀法中，向被成膜基板射出的蒸镀颗粒有助于成膜，但是其以外的蒸镀颗粒对成膜没有贡献。因此，在真空蒸镀法中，除了沉积在被成膜基板上的蒸镀膜以外，全部成为材料的损失。因此，蒸镀颗粒的指向性越低，材料利用效率越低。

因此，近年来提出了，通过限制蒸镀颗粒的飞散方向来提高蒸镀颗粒的指向性，由此将蒸镀颗粒适当地导向蒸镀区域的方法(例如专利文献1等)。

专利文献1中公开了通过使用控制蒸镀颗粒的飞来方向的控制板来控制蒸镀颗粒的流动(蒸镀流)，使蒸镀材料的利用效率提高，并且使成膜品质提高，进行均匀的蒸镀。

专利文献1所记载的蒸镀装置，在真空室内配备成为蒸镀对象的被成膜基板和蒸镀源，使从蒸镀源放出的蒸镀颗粒附着在被成膜基板上，由此在被成膜基板上形成未图示的蒸镀膜。

专利文献1所记载的蒸镀源包括3个叠层的框体。在这些框体的周围，缠绕有加热用的线圈。

最下层的框体是通过收容并加热蒸镀材料而产生蒸镀颗粒的加热部(蒸镀颗粒产生部)。剩余的2个框体是对从作为加热部的最下层的框体向被成膜基板去的蒸镀颗粒的方向进行控制的蒸镀流控制层(蒸镀流控制部)。

在用作蒸镀流控制层的上述2个框体中形成有：由在从用作加热部的最下层的框体向被成膜基板去的方向上竖立设置的控制板分隔而成的喷嘴状的多个流通区域(蒸镀喷嘴、射出口)。

由此，从加热部经由各流通区域而放出的蒸镀颗粒的飞散方向被控制为沿着各流通区域的控制板的侧面的方向。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本公开特许公报“特开2004-137583号公报(2004 年5月13日公开)”

发明内容

发明要解决的技术问题