[发明专利]具有微细图案的树脂薄膜的制造方法以及有机EL显示装置的制造方法与微细图案形成用基材薄膜和具有支撑部件的树脂薄膜

权利要求书

1.一种具有微细图案的树脂薄膜的制造方法，其特征在于：

将液状的树脂材料涂敷至支撑部件来形成树脂涂敷膜；

通过使所述树脂涂敷膜的温度上升至所述树脂材料硬化的温度并烘烤所述树脂涂敷膜来形成树脂烘烤膜，且在所述支撑部件和所述树脂烘烤膜之间，形成与所述支撑部件及所述树脂烘烤膜紧密附着的短波长光吸收层；

照射激光至通过所述短波长光吸收层而紧密附着于所述支撑部件的所述树脂烘烤膜来对所述树脂烘烤膜进行加工，以使所述树脂烘烤膜形成期望的图案；及

从所述支撑部件剥离所述树脂薄膜。

2.如权利要求1所述的树脂薄膜的制造方法，其特征在于，

通过调整所述树脂材料的涂敷厚度、所述烘烤时的烘烤温度、所述烘烤的时间以及烘烤温度与烘烤时间的分布的至少一个，并且进行所述树脂涂敷膜的烘烤，使经烘烤而形成的树脂薄膜的线膨胀率，与所述支撑部件或重叠使用所述微细图案加工形成的树脂薄膜的基板的线膨胀率之间的差为3ppm/℃以下。

3.如权利要求1或2所述的树脂薄膜的制造方法，其特征在于，

选定所述支撑部件以使所述支撑部件的线膨胀率与重叠使用所述微细加工形成的树脂薄膜的基板的线膨胀率之间的差为6ppm/℃以下。

4.如权利要求1或2所述的树脂薄膜的制造方法，其特征在于，

每5分钟以上120分钟以下以10℃以上200℃以下的温度阶段性地上升，并且上升至烘烤温度以进行所述树脂材料的烘烤。

5.如权利要求1或2所述的树脂薄膜的制造方法，其特征在于，

通过所述激光照射的加工，是具有微细图案的光学元件的该微细图案的形成加工。

6.如权利要求3所述的树脂薄膜的制造方法，其特征在于，

通过所述激光照射的加工，是用于形成为每个基板上的像素蒸镀有机材料的蒸镀掩模的加工。

7.如权利要求5所述的树脂薄膜的制造方法，其特征在于，

所述激光是频率为1Hz以上60Hz以下的脉冲激光，脉冲宽度为1纳秒以上15纳秒以下，每1脉冲的照射面中的激光的强度为0.01J/cm²以上1J/cm²以下。

8.如权利要求1或2所述的树脂薄膜的制造方法，其特征在于，

在从所述支撑部件剥离所述烘烤后的树脂薄膜之前，在所述树脂薄膜的周缘形成框体。

9.如权利要求1或2所述的树脂薄膜的制造方法，其特征在于，

从所述支撑部件剥离所述树脂薄膜时，通过照射聚焦焦点的短波长光至所述树脂薄膜与所述支撑部件之间的界面，减弱所述树脂薄膜与所述支撑部件之间的紧密附着力以进行剥离。

10.一种有机EL显示装置的制造方法，是在基板上层叠有机层以制造有机EL显示装置的方法，其特征在于：

将液状树脂涂敷至支撑部件上并烘烤，形成与所述支撑部件紧密贴着的短波长光吸收层及在所述短波长光吸收层与所述支撑部件的反侧面、与所述短波长光吸收层紧密附着的树脂烘烤膜，通过照射激光至所述树脂烘烤膜来形成开口图案，以形成蒸镀掩模；

将所述蒸镀掩模对准重叠至形成第一电极的基板上，通过蒸镀有机材料而在所述基板上层叠有机层；及

除去所述蒸镀掩模以形成第二电极。

11.一种微细图案形成用基材薄膜，其是通过激光加工形成微细图案的微细图案形成用基材薄膜，其特征在于，包括：

支撑部件；

短波长光吸收层，其在所述支撑部件的一面，遍及所述微细图案的整个形成区域，与所述支撑部件紧密附着而形成；及

树脂烘烤膜，其在所述短波长光吸收层的与所述支撑部件的相反面，遍及所述微细图案的整个形成区域，与所述短波长光吸收层紧密附着而形成。

12.一种具有支撑部件的树脂薄膜，其特征在于，包括：

支撑部件；

短波长光吸收层，其形成于所述支撑部件的一面；及

树脂烘烤膜，其在所述短波长光吸收层的与所述支撑部件的相反面形成蒸镀掩模用的开口图案或光学元件用的凹凸图案，

遍及形成所述开口图案或所述凹凸图案的整个区域，所述支撑部件与所述短波长光吸收层紧密附着，并且，所述短波长光吸收层与所述树脂烘烤膜紧密附着。