[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法及元件制造方法有效
申请号: | 201680057195.0 | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN108139678B | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | 青木保夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/68 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 平面 显示器 制造 方法 元件 | ||
1.一种曝光装置,其具备:
支承部,其以非接触方式支承物体;
保持部,其保持被前述支承部以非接触方式支承的前述物体;
第1驱动部,其使前述保持部向在水平面内彼此正交的第1及第2方向移动;
第2驱动部,使前述支承部向前述第1方向移动;
基准构件,其作为前述保持部向前述第1及第2方向的移动的基准;
第1测量部,其具有:具有前述第1方向的测量成分的第1格子部、以及配置成与前述第1格子部对置且对前述第1格子部照射测量光束的第1读头,前述第1格子部与前述第1读头中的一方设于前述保持部,前述第1格子部与前述第1读头中的另一方设于前述基准构件与前述保持部之间,藉由前述第1读头及前述第1格子构件测量前述第1读头的位置信息;
第2测量部,其测量前述第1格子部与前述第1读头中的另一方的位置信息;
位置测量系,其根据由前述第1及第2测量部测量的位置信息,求出在前述第1及第2方向中保持前述物体的前述保持部的位置信息;以及
图案形成装置,使用能量束在前述物体形成既定图案;
前述第1驱动部及前述第2驱动部,于在前述物体形成前述既定图案的过程中,使前述保持部及前述支承部向前述第1方向移动。
2.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,前述第1驱动部使保持于前述保持部的前述物体相对前述支承部向前述第2方向移动。
3.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其中,前述曝光装置进一步具备设有前述第1格子部与前述第1读头中的另一方的移动体;
前述移动体以与前述第1驱动部使前述保持部向前述第2方向的驱动不同的时机被向前述第2方向驱动。
4.根据权利要求3所述的曝光装置,其中,前述移动体在前述第2方向以既定间隔设有多个;
前述第1测量部,藉由设于多个前述移动体的各个移动体的前述第1格子部与前述第1读头中的另一方、与设于前述保持部的前述第1格子部与前述第1读头中的一方测量位置信息。
5.根据权利要求3所述的曝光装置,其中,前述第2测量部具有:具有前述第2方向的测量成分的第2格子部、以及对前述第2格子部照射测量光束的第2读头,前述第2格子部与前述第2读头中的一方设于前述移动体,前述第2格子部与前述第2读头中的一方设于前述基准构件。
6.根据权利要求5所述的曝光装置,其中,前述第1测量部包含在前述第1方向彼此分离配置的多个第1被测量系、以及在前述第1方向彼此分离配置的多个第1测量系;
前述第2测量部包含在前述第2方向彼此分离配置的多个第2被测量系、以及在前述第2方向彼此分离配置的多个第2测量系;
前述第1测量部中,相邻的一对前述第1测量系间的间隔比相邻的一对前述第1被测量系间的间隔宽;
前述第2测量部中,相邻的一对前述第2测量系间的间隔比相邻的一对前述第2被测量系间的间隔宽。
7.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其中,前述支承部与前述保持部设成彼此为非接触。
8.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其中,前述支承部以非接触方式支承前述物体的下面。
9.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其中,前述保持部包含保持前述物体的外周缘部至少一部分的框状构件。
10.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其中,前述支承部具有能支承前述物体中形成前述图案的对象的大致全区域的支承面。
11.根据权利要求10所述的曝光装置,其中,前述第1驱动部以在前述第2方向中前述物体的至少一部分从前述支承部脱离的方式使前述保持部与前述支承部相对移动。
12.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其中,前述物体是用于平面显示器的基板。
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