[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法及元件制造方法有效
申请号: | 201680057195.0 | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN108139678B | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | 青木保夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/68 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 平面 显示器 制造 方法 元件 | ||
使基板(P)移动的基板载台装置(20)具备:非接触保持具(32),以非接触方式支承基板(P);第1驱动系,使非接触保持具(32)移动;标尺板(82),作为非接触保持具(32)的移动的基准;第1测量部,测量Y读头(78y)的位置信息,具有标尺板(46)与Y读头(78y),标尺板(46)与Y读头(78y)中的一者设于非接触保持具(32),标尺板(46)与Y读头(78y)中的另一者设于标尺板(82)与非接触保持具(32)之间;第2测量部,测量标尺板(46)与Y读头(78y)中的另一者的位置信息;及位置测量系,根据由第1及第2测量部测量的位置信息,求出非接触保持具(32)的位置信息。
技术领域
本发明关于移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法、以及物体的移动方法,更详言之,关于使物体移动的移动体装置及移动方法、包含移动体装置的曝光装置、使用曝光装置的平面显示器、或元件的制造方法。
背景技术
以往,在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等的电子元件(微型元件)的微影工序中,使用步进扫描方式的曝光装置(所谓扫描步进机(也称为扫描机))等,其一边使光罩(photomask)或标线片(以下总称为“光罩”)与玻璃板或晶圆(以下总称为“基板”)沿着既定扫描方向同步移动,一边使用能量光束将形成在光罩的图案转印至基板上。
作为此种曝光装置,已知有使用基板载台装置所具有的棒反射镜(长条的镜)求出曝光对象基板在水平面内的位置信息的光干涉仪系统的装置(参照例如专利文献1)。
此处,在使用光干涉仪系统求出基板的位置信息的情况下,无法忽视所谓空气波动的影响。
先行技术文献
专利文献1:美国专利申请公开第2010/0266961号说明书
发明内容
根据本发明的第1方式,提供一种移动体装置,其具备:支承部,其以非接触方式支承物体;保持部,其保持被前述支承部以非接触方式支承的前述物体;第1驱动部,其使前述保持部向彼此交叉的第1及第2方向移动;基准构件,其作为前述保持部向前述第1及第2方向的移动的基准;第1测量部,其具有:具有前述第1方向的测量成分的第1格子部、以及配置成与前述第1格子部对置且对前述第1格子部照射测量光束的第1读头,前述第1格子部与前述第1读头中的一方设于前述保持部,前述第1格子部与前述第1读头中的另一方设于前述基准构件与前述保持部之间,藉由前述第1读头及前述第1格子构件测量前述第1读头的位置信息;第2测量部,其测量前述第1格子部与前述第1读头中的另一方的位置信息;以及位置测量系,其根据由前述第1及第2测量部测量的位置信息,求出在前述第1及第2方向中保持前述物体的前述保持部的位置信息。
根据本发明的第2方式,提供一种曝光装置,其具备:第1方式的移动体装置;以及使用能量束在前述物体形成既定图案的图案形成装置。
根据本发明的第3方式,提供一种平面显示器制造方法,其包含:使用第2方式的曝光装置使前述物体曝光的动作;以及使曝光后的前述物体显影的动作。
根据本发明的第4方式,提供一种元件制造方法,其包含:使用第2方式的曝光装置使前述物体曝光的动作;以及使曝光后的前述物体显影的动作。
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