[发明专利]用于清洁光学元件的受控流体流动

权利要求书

1.一种用于清洁光学元件的方法，包括：

基于第一流动模式朝向所述光学元件的表面引导流体，所述表面包括碎片，并且基于所述第一流动模式被引导的所述流体将至少一些所述碎片移动到所述光学元件的表面上的第一停滞区域；以及

基于第二流动模式朝向所述光学元件的所述表面引导所述流体，基于所述第二流动模式被引导的所述流体将至少一些所述碎片移动到所述光学元件的所述表面上的第二停滞区域，所述第二停滞区域和所述第一停滞区域包括所述光学元件的所述表面处的不同位置，并且其中基于所述第二流动模式朝向所述光学元件引导所述流体从所述第一停滞区域去除至少一些所述碎片。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一流动模式和所述第二流动模式包括足以指示所述流体朝向所述光学元件的所述表面的流动的信息，所述信息包括以下项中的一项或多项：流动速率、所述流体相对于所述光学元件的所述表面的空间分布、以及所述流体朝向所述光学元件的所述表面被引导的时间段。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述流体包括自由基。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述碎片包括材料，并且所述自由基与所述材料结合或反应。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述自由基与所述材料结合或反应，以由此通过所述材料的燃烧、所述材料的蚀刻或与所述材料的反应中的一项来从所述表面去除所述材料。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，

基于所述第一流动模式引导所述流体包括：以第一流动速率朝向所述光学元件的所述表面引导所述流体，并且

基于所述第二流动模式引导所述流体包括：以第二流动速率朝向所述光学元件的所述表面引导所述流体。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，

基于所述第一流动模式引导所述流体包括：以第一流动速率和第一方向中的一项或多项朝向所述光学元件的所述表面引导所述流体，并且

基于所述第二流动模式引导所述流体包括：以第二流动速率和第二方向中的一项或多项朝向所述光学元件的所述表面引导所述流体。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，

基于所述第一流动模式朝向所述表面引导所述流体包括：穿过相对于所述光学元件的第一侧定位的第一导管，以第一流动速率朝向所述光学元件的所述表面引导所述流体，以及穿过相对于所述光学元件的第二侧定位的第二导管，以第二流动速率朝向所述光学元件的所述表面引导所述流体；并且

基于所述第二流动模式朝向所述表面引导所述流体包括：穿过所述第一导管以第三流动速率朝向所述光学元件的所述表面引导所述流体，以及穿过所述第二导管以第四流动速率朝向所述光学元件的所述表面引导所述流体。

9.一种用于清洁光学元件的系统，包括：

包括侧壁的导管，所述侧壁包括从所述导管的内部通向所述导管的外部的至少一个开口，所述导管被配置为在所述导管的所述内部中输送自由基、并且使所述自由基通过穿过所述侧壁的所述至少一个开口，以便清洁光学元件；以及

控制系统，包括被耦合到一个或多个电子处理器的电子存储装置，所述电子存储装置包括当被执行时使所述一个或多个电子处理器执行以下操作的指令：

从存储在所述电子存储装置上的多个流动模式中选择流动模式，所述流动模式中的每一个包括足以描述穿过所述至少一个开口的所述自由基的流动的信息，足以描述穿过所述至少一个开口的所述自由基的所述流动的信息至少包括所述自由基在时间段上的流动速率；以及

将所选择的流动模式应用到所述系统的流动控制器，以使所述自由基在由所选择的流动模式指示的所述时间段内，以流动速率穿过所述至少一个开口。