[发明专利]用于清洁光学元件的受控流体流动

说明书

基于第一流动模式朝向光学元件(420)的表面(422)引导流体(105)，光学元件的表面包括碎片，并且基于第一流动模式被引导的流体将至少一些碎片移动到光学元件的表面处的第一停滞区域(425)；并且基于第二流动模式朝向光学元件引导流体，基于第二流动模式被引导的流体将至少一些碎片移动到光学元件的表面上的第二停滞区域，第二停滞区域和第一停滞区域是光学元件的表面处的不同的位置。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年8月6日提交的题为“用于清洁光学元件的受控流体流动(CONTROLLED FLUID FLOW FOR CLEANING AN OPTICAL ELEMENT)”的美国临时申请No.62/201,955的权益以及于2015年11月11日提交的题为用于清洁光学元件的受控流体流动(CONTROLLED FLUID FLOW FOR CLEANING AN OPTICAL ELEMENT)的美国实用申请No.14/937,973的权益，这两个申请的全部内容通过引用并入本文。

技术领域

所公开的主题涉及用于控制流体流动以清洁光学元件的技术。

背景技术

光学元件包括通过折射和/或反射与光束相互作用的表面。表面可能积聚碎片，使得光学元件的性能降低。

发明内容

在一个总体方面，基于第一流动模式朝向光学元件的表面引导流体，光学元件的表面包括碎片，并且基于第一流动模式被引导的流体将至少一些碎片移动到光学元件的表面处的第一停滞区域。还基于第二流动模式朝向光学元件引导流体，基于第二流动模式被引导的流体将至少一些碎片移动到光学元件的表面上的第二停滞区域，第二停滞区域和第一停滞区域是光学元件的表面处的不同位置。基于第二流动模式朝向光学元件的表面引导流体从第一停滞区域去除至少一些碎片。

实现可以包括以下特征中的一个或多个。第一流动模式和第二流动模式可以包括足以指示流体朝向光学元件的表面的流动的信息，信息包括流动速率、流体相对于光学元件的表面的空间分布、以及流体朝向光学元件的表面被引导的时间段中的一项或多项。流体可以包括气体。流体可以包括自由基。碎片可以包括与材料反应或与材料结合的材料。自由基可以与材料结合或反应，从而通过材料的燃烧、材料的蚀刻或与材料的反应中的一项从表面去除材料。

在一些实现中，基于第一流动模式引导流体包括以第一流动速率朝向光学元件的表面引导流体，并且基于第二流动模式引导流体包括以第二流动速率朝向光学元件的表面引导流体。基于第一流动模式引导流体可以包括在第一方向上朝向光学元件的表面引导流体，并且基于第二流动模式引导流体包括在第二方向上朝向光学元件的表面引导流体。基于第一流动模式引导流体可以包括以第一流动速率和第一方向中的一项或多项朝向光学元件的表面引导流体，并且基于第二流动模式引导流体可以包括以第二流动速率和第二方向中的一项或多项朝向光学元件的表面引导流体。

基于第一流动模式朝向表面引导流体可以包括通过相对于光学元件的第一侧定位的第一导管以第一流动速率朝向光学元件的表面引导流体以及通过相对于光学元件的第二侧定位的第二导管以第二流动速率朝向光学元件的表面引导流体；并且基于第二流动模式朝向表面引导流体包括通过第一导管以第三流动速率朝向光学元件的表面引导流体以及通过第二导管以第四流动速率朝向光学元件的表面引导流体。

在第一时间段期间，可以基于第一流动速率将流体引导穿过第一导管和第二导管，并且在第二时间段期间，可以基于第二流动速率将流体引导穿过第一导管和第二导管。在第一时间段和第二时间段中的一个或多个的至少一部分期间，流体可以被同时引导穿过第一导管和第二导管。第一流动速率和第二流动速率可以彼此不同。第三流动速率和第四流动速率可以彼此不同，并且第三流动速率和第四流动速率中的至少一个可以与第一流动速率或第二流动速率不同。第一流动速率和第二流动速率可以彼此相同。第三流动速率和第四流动速率可以彼此相同并且与第一流动速率和第二流动速率不同。