[发明专利]显示器用玻璃基板及其制造方法

权利要求书

1.一种显示器用玻璃基板，其具有第一面和与该第一面相反侧的第二面，其特征在于，

所述第一面具有多个开口的孔，

所述孔的平均开口面积为3.00×10³nm²以上且1.70×10⁴nm²以下，

所述孔的合计开口面积为6.09×10⁶nm²/25μm²以上，

所述显示器用玻璃基板为实质上不含有碱金属氧化物的无碱玻璃基板，

所述无碱玻璃中的Na₂O、K₂O、Li₂O的合计含量为0.1质量％以下，并且

所述第一面和所述第二面为矩形，并且一边的长度为1m以上。

2.如权利要求1所述的显示器用玻璃基板，其中，

以氧化物基准的质量％表示，所述显示器用玻璃基板的玻璃组成为：

SiO₂的含量为50质量％～70质量％、

Al₂O₃的含量为10质量％～20质量％、

B₂O₃的含量为0～15质量％、

MgO的含量为0～10质量％、

CaO的含量为0～20质量％、

SrO的含量为0～20质量％、

BaO的含量为0～20质量％、

MgO、CaO、SrO、BaO的合计含量为1质量％～30质量％。

3.如权利要求1或2所述的显示器用玻璃基板，其中，所述第二面为用于形成电子构件的面，所述第一面为不形成电子构件的面。

4.如权利要求1或2所述的显示器用玻璃基板，其中，所述第一面的算术平均粗糙度Sa为0.30nm以上。

5.一种显示器用玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述显示器用玻璃基板的制造方法包括对具有第一面和与该第一面相反侧的第二面的玻璃板的所述第一面进行玻璃蚀刻处理的工序，

在所述进行玻璃蚀刻处理的工序中，以使得平均开口面积为3.00×10³nm²以上且1.70×10⁴nm²以下、合计开口面积为6.09×10⁶nm²/25μm²以上的方式形成在所述第一面开口的多个孔，并且

所述显示器用玻璃基板为实质上不含有碱金属氧化物的无碱玻璃基板，

所述无碱玻璃中的Na₂O、K₂O、Li₂O的合计含量为0.1质量％以下。

6.如权利要求5所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其中，在所述进行玻璃蚀刻处理的工序之前具有利用含有碳酸钙的浆料对所述玻璃板进行清洗的工序。

7.如权利要求5或6所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其中，所述玻璃蚀刻处理为利用含有氟化氢的气体进行的蚀刻。

8.如权利要求7所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其中，在所述利用含有氟化氢的气体进行的蚀刻中，从反应气体喷出口向蚀刻槽内以0.07m/秒喷出含有氟化氢反应成分的气体，并从反应气体排出口以0.07m/秒排出，从反应气体排出口排出的气体与反应气体排出口周围的空气一起被以0.5m/秒抽吸时的混合气体中所含的氟化氢浓度为500ppm～1500ppm。