[发明专利]弹性波装置有效

专利信息
申请号: 201680059542.3 申请日: 2016-08-08
公开(公告)号: CN108141198B 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 三村昌和 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H03H9/25 分类号: H03H9/25;H03H9/145;H03H9/64
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 赵琳琳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 弹性 装置
【权利要求书】:

1.一种弹性波装置,具备:

LiNbO3基板;

IDT电极,设置在所述LiNbO3基板;

电介质膜,设置在所述LiNbO3基板上,使得覆盖所述IDT电极;以及

频率调整膜,设置在所述电介质膜上,

所述LiNbO3基板的欧拉角为(0°±5°的范围内,θ±1.5°的范围内,0°±10°的范围内),所述IDT电极具有主电极,在将通过由所述IDT电极的电极指间距决定的波长λ进行标准化而成的所述主电极的膜厚设为T并将所述主电极的材料与Pt的密度比设为r时,

所述主电极为从包含Pt、W、Ta以及Mo的组之中选择出的一种金属或将从包含Pt、W、Ta以及Mo的组之中选择出的一种金属作为主体的合金,

所述主电极的膜厚T和所述欧拉角的θ满足下述的式(1),

式(1):θ=-0.05°/(T/r-0.04)+31.35°。

2.根据权利要求1所述的弹性波装置,其中,

所述θ处于25°以上且31°以下的范围内。

3.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,

所述频率调整膜的膜厚大于0且为0.025λ以下。

4.根据权利要求3所述的弹性波装置,其中,

所述频率调整膜的膜厚为0.005λ以下。

5.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,

所述电介质膜包含氧化硅。

6.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,

所述频率调整膜包含氮化硅。

7.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,

所述IDT电极具有所述主电极和包含所述主电极以外的金属的其他电极层。

8.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,

所述弹性波装置是具有所述IDT电极的带通型滤波器。

9.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,

所述IDT电极的合计膜厚为0.25λ以下。

10.根据权利要求5所述的弹性波装置,其中,

所述氧化硅的厚度比所述IDT电极厚。

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