[发明专利]弹性波装置有效
申请号: | 201680059542.3 | 申请日: | 2016-08-08 |
公开(公告)号: | CN108141198B | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 三村昌和 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
主分类号: | H03H9/25 | 分类号: | H03H9/25;H03H9/145;H03H9/64 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 赵琳琳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 弹性 装置 | ||
1.一种弹性波装置,具备:
LiNbO3基板;
IDT电极,设置在所述LiNbO3基板;
电介质膜,设置在所述LiNbO3基板上,使得覆盖所述IDT电极;以及
频率调整膜,设置在所述电介质膜上,
所述LiNbO3基板的欧拉角为(0°±5°的范围内,θ±1.5°的范围内,0°±10°的范围内),所述IDT电极具有主电极,在将通过由所述IDT电极的电极指间距决定的波长λ进行标准化而成的所述主电极的膜厚设为T并将所述主电极的材料与Pt的密度比设为r时,
所述主电极为从包含Pt、W、Ta以及Mo的组之中选择出的一种金属或将从包含Pt、W、Ta以及Mo的组之中选择出的一种金属作为主体的合金,
所述主电极的膜厚T和所述欧拉角的θ满足下述的式(1),
式(1):θ=-0.05°/(T/r-0.04)+31.35°。
2.根据权利要求1所述的弹性波装置,其中,
所述θ处于25°以上且31°以下的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,
所述频率调整膜的膜厚大于0且为0.025λ以下。
4.根据权利要求3所述的弹性波装置,其中,
所述频率调整膜的膜厚为0.005λ以下。
5.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,
所述电介质膜包含氧化硅。
6.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,
所述频率调整膜包含氮化硅。
7.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,
所述IDT电极具有所述主电极和包含所述主电极以外的金属的其他电极层。
8.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,
所述弹性波装置是具有所述IDT电极的带通型滤波器。
9.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,
所述IDT电极的合计膜厚为0.25λ以下。
10.根据权利要求5所述的弹性波装置,其中,
所述氧化硅的厚度比所述IDT电极厚。
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