[发明专利]具有低氧气传输速率的药物和其他包装在审
申请号: | 201680060686.0 | 申请日: | 2016-08-18 |
公开(公告)号: | CN108138316A | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | M·威尔斯;A·塔哈;C·维卡特 | 申请(专利权)人: | SIO2医药产品公司 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/40;C23C16/30;C23C16/515;A61L31/08;A61J1/05 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 王海宁 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 施加 内腔中 阻隔涂层 衔接 等离子体增强化学气相沉积处理 血液样品收集 环境压力 气体渗透 速率常数 涂覆容器 氧气传输 抽真空 暴露 制造 | ||
通过等离子体增强化学气相沉积处理抽真空的血液样品收集管或其他容器以施加衔接涂层或层(289)、阻隔涂层或层(288)以及任选的一个或多个另外的涂层或层。在部分真空下施加SiOxCy衔接涂层或层,并且在保持内腔中的该部分真空不被破坏的同时,施加该阻隔涂层或层。然后任选地,在保持该内腔中的该部分真空不被破坏的同时,可以施加SiOxCy的pH保护涂层或层。作为该处理的结果,产生了,与通过除了在施加该衔接涂层或层与施加该阻隔涂层或层之间破坏该内腔中的该部分真空之外相同的工艺所制造的相应容器相比,具有更低的到该内腔中的气体渗透速率常数的涂覆容器。还描述了用于在暴露于降低的环境压力期间保持这些容器被塞住的保持特征。
相关申请
本申请要求提交于2015年8月18日的美国临时专利申请序列号62/206,637的优先权。序列号62/206,637的说明书和附图以及美国专利号7,985,188和美国序列号14/751,435(提交于2015年6月26日)的说明书和附图在此通过引用整体并入。所并入的专利和申请描述了通常可以用于进行本发明的设备、容器、前体、涂层或层以及方法(特别是涂覆方法和用于检查涂层或层的测试方法),在一些情况下本文进行了修改。它们还描述了本文提及的SiOxCy衔接涂层或层和pH保护涂层或层以及SiOx阻隔涂层或层。
技术领域
本发明涉及阻隔涂覆表面,例如用于储存流体或者说与流体接触的药物包装或其他容器的内部表面的技术领域。适合的流体的实例包括食物、营养补充剂、药品、吸入麻醉剂、诊断测试材料或生物活性化合物或体液,例如血液。本发明还涉及一种具有气体阻隔涂层和任选的用以保护该气体阻隔涂层的pH保护涂层的血液收集管或其他容器。
本披露还涉及用于处理药物包装或其他容器,例如用于药物制剂储存和递送、静脉穿刺和其他医学样品收集(例如,抽真空的血液样品收集管)以及其他目的的多个相同药物包装或其他容器的改进方法。
本披露还涉及所得的包装即药物包装或其他容器。此类药物包装或其他容器被大量使用,并且对于制造而言必须是相对经济的且还在储存和使用上高度可靠。
背景技术
在制造用于储存流体或者说与流体接触的药物包装或其他容器(例如小瓶、预填充式注射器或样品收集管)中的一个重要考虑因素是:药物包装或其他容器的内容物将令人希望地具有可观的保质期。在这个保质期内,重要的是使容纳在药物包装或其他容器中的任何材料与容纳它的容器壁分离、或与施加至药物包装或其他容器壁上的阻隔层或其他功能层分离,以避免材料从药物包装或其他容器壁、阻隔层、或其他功能层提取进入预填充的内容物中,或反之亦然。
一些公司已转向塑料药物包装或其他容器,它们提供比玻璃更大的尺寸公差和更少的破损,但是塑料在初级药物包装中的使用仍然受到限制,这是由于其相对高的气体(氧气)渗透速率:塑料允许小分子气体渗入(或渗出)制品。塑料对气体的渗透速率常数显著大于玻璃,并且在许多情况(正如对氧气敏感的药物诸如肾上腺素)下,出于这个原因塑料是不可接受的。
通过在容器壁上添加阻隔涂层或层已经解决了热塑性容器的相对高渗透速率常数的问题。一种这样的阻隔层是非常薄的如下文所定义的SiOx涂层,其通过等离子体增强化学气相沉积施加到限定内腔的壁的内表面。但是,通过PECVD沉积在包装上的当前的SiOx阻隔层被容器的具有大于4的pH值(尤其是在更高的pH值下)的水性内容物腐蚀掉。由于其阻隔功效降低,这减少了容器的有用保质期。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SIO2医药产品公司,未经SIO2医药产品公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680060686.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的