[发明专利]真空涂布系统中涂布超长片型基材，特别是玻璃板，装置及方法

权利要求书

1.一种用于在真空涂布系统中涂布超长平面基材的装置，所述装置具有下列特征：

a)设置在入口侧上的一系列腔室，其由各自的基材平板(9)通过，这些腔室包含锁定腔室(1)、缓冲腔室(2)以及传送腔室(3)，其中在所述入口侧处的这些腔室中的每一个腔室可通过瓣阀(8、11、15)以气密方式关闭，而且其中所述传送腔室(3)之后是处理腔室(4)的区域，且所述处理腔室(4)之后是出口侧系列的传送腔室(5)、缓冲腔室(6)与锁定腔室(7)；

b)建构在辊子上的输送装置(10)；

c)在所述缓冲腔室(2)的区域中具有适配凸缘(14)的单个高输出真空泵(13)；

d)在所述缓冲腔室(2)的所述区域中的至少一个流动挡板(12)；

e)用于所述流动挡板(12)的纵向位移的装配(16)，和用于所述流动挡板(12)的高度调整的装配(17)；以及

f)用于控制运动过程的组件。

2.根据权利要求1所述的装置，

其特征在于：

用于监测用于所述流动挡板(12)的所述纵向位移的装配(16)，和/或用于所述流动挡板(12)的所述高度调整的装配(17)的传感器(19)。

3.根据权利要求1及2中任一项所述的装置，

其特征在于：

设有光场传感器(20)，以供整体涂布处理的控制技术管理。

4.一种在真空涂布系统中涂布超长平面基材的方法，包括下列方法步骤：

a)在打开入口侧锁定腔室(1)的入口侧瓣阀(8)之后，通过输送装置(10)将待涂布的基材平板(9)输送到所述锁定腔室(1)中，其中，在超长基材平板(9)的情况中，在所述锁定腔室(1)之后的缓冲腔室(2)的入口侧瓣阀(11)被同时打开，而且其中在后传送腔室(3)的入口侧瓣阀(15)被关闭；

b)在所述基材平板(9)已经通过所述瓣阀(8)的区域后，所述瓣阀(8)被关闭；

c)然后，通过装配(16)和装配(17)执行安装的流动挡板的纵向位移和高度调整，从而根据所述基材平板(9)的长度和厚度而取决于所述基材平板(9)的尺寸；

d)在高输出真空泵(13)的操作之后，所述基材平板(9)被输送到处理腔室(4)的区域中；

e)在所述涂布处理之后，通过传送腔室(5)、缓冲腔室(6)与锁定腔室(7)将所述基材平板(9)传送到所述真空涂布系统的出口。

5.根据权利要求4所述的方法，

其特征在于：

设有传感器(19)以监测用于所述流动挡板(12)的所述纵向位移的所述装配(16)和/或用于所述流动挡板(12)的所述高度调整的所述装配(17)。

6.根据权利要求4与5中任一项所述的方法，

其特征在于：

设有光场传感器(20)以供整体涂布处理的控制技术管理。

7.一种计算器软件程序，具有当所述软件程序于计算器中执行时用于实施根据权利要求4至6中其中一项所述的方法步骤的程序代码。

8.一种机器可读载体，具有计算器软件程序的程序代码，所述程序代码当所述软件程序于计算器中执行时用于实施根据权利要求4至6中其中一项所述的方法步骤。