[发明专利]真空涂布系统中涂布超长片型基材，特别是玻璃板，装置及方法

说明书

本发明是关于在真空涂布系统中涂布超长片型基材，特别是玻璃板，的装置与方法，所述系统具有下列特征：a)设置在入口侧上的一系列连接的腔室，其由每一基材平板(9)通过，即锁定腔室(1)、缓冲腔室(2)以及传送腔室(3)，其中这些腔室中的每一个腔室的入口处可通过止回阀(8、11、15)以气密方式关闭，其中所述传送腔室(3)之后是处理腔室(4)的区域，且所述处理腔室(4)之后是出口侧系列连接的传送腔室(5)、缓冲腔室(7)与锁定腔室(8)；b)建构在辊子上的输送装置(10)；c)在缓冲腔室(2)的区域中具有适配凸缘(14)的单个高能真空泵(13)；d)在缓冲腔室(2)的区域中的至少2个流动挡板(12)；e)用于所述流动挡板(12)的纵向位移的系统(16)，和用于所述流动挡板(12)的高度调整的系统(17)；f)用于控制动态过程的组件。

技术领域

本发明与在真空涂布系统中涂布超长平面板基材(特别是玻璃板)的装置和方法有关。

背景技术

磁场支撑阴极雾化(磁控溅镀)已进入现代表面技术的许多领域。从半导体电子学的应用出发，今日的磁场支撑阴极雾化技术已被建立作为建筑玻璃、平面屏幕、光学玻璃、条形材料、工具、装饰对象和功能性组件的工业涂布方法。

最大的真空涂布系统，因此通常也是需要最多能量的系统，是用于建筑玻璃涂层的典型水平式在线系统(in-line system)。

在开发过程中，已经建立了涂布以及进一步加工和物流的标准窗格格式(standard pane format)。涂布系统通常被想到用于标准窗格格式(例如，6.00m长x3.21m宽)。

在涂布系统中可另外涂布超大窗格格式。这些超大窗格格式在整体产量上之百分率比例较为次要，因此在无重大投资下，要通过技术和控制技术适应来实现也涂布超长窗格格式(例如，12.00m长x3.21m宽)之机率。

根据背景技术，特定的真空泵组件或真空泵单元组件、和真空腔室内的流动挡板分别被用以供涂布系统可为标准窗格以及超长窗格格式两者所用。

现将参照下列背景技术公开文件：

EP 1 571 234 B1中描述了一种用于操作在线涂布系统的方法。

为了平面基材，特别是玻璃板，待涂布的基材在真空系统中是在真空条件下被涂布，其中从靶材移除的材料被沉积在各自的基材上。在此所导入的方法是根据可通过仅一个涂布系统而涂布正常基材以及超长基材两者的目的。

在此方法的情况中，在专利权利请求1的前序部分中提及了下述背景技术。所述背景技术从一种操作在线涂布系统的方法开始，所述在线涂布系统具有负载锁定腔室、邻近前者的缓冲腔室、邻近后者的处理腔室、邻近处理腔室的另一缓冲腔室、以及邻近后续缓冲腔室的卸除锁定腔室。在此方法的情况中，可被打开和关闭的门是设置在腔室之间，其中所述负载锁定腔室、所述缓冲腔室、和所述卸除锁定腔室是预定为相同类型的模块，且是用于接收达一预定最大尺寸的基材。

为了实现所述目标，在专利权利要求1的特征部分中主张的是，为涂布比模块大的基材，在负载锁定腔室与缓冲腔室之间的门、以及在缓冲腔室与卸除锁定腔室之间的门、以及在缓冲腔室与卸除锁定腔室之间的门可被打开，而缓冲腔室的、负载锁定腔室的、以及卸除锁定腔室的各自压力条件可彼此适应。

WO 2009/004048 A1是关于一种用于在真空涂布系统中将超长基材移动通过锁定的方法与装置。在这种方法的情况中，通常是使用三腔室真空涂布系统、或五腔室真空涂布系统。相对于五腔室涂布系统，三腔室涂布系统不具有任何缓冲腔室。

在此公开文件中虽未陈述具体目的，然可从说明中得出，特别是在第5页上方，除了使用此方法通过标题中所述锁定系统内的解耦压力来涂布超长基材以外，锁定系统的泵送次数及因而所述系统的循环次数会比三腔室系统的操作为少。