[发明专利]激光处理装置整流装置及激光处理装置

权利要求书

1.一种激光处理装置整流装置，是设于向具有板面的处理对象照射激光以进行处理的激光处理装置的整流装置，其特征在于，包括：

整流部，所述整流部设置于供激光透过以向保持于所述激光处理装置的所述处理对象照射的透过区域的端部侧，并且具有与所述处理对象空开间隔而沿所述处理对象的板面向所述透过区域的外侧延伸的整流面；

气体供给部，所述气体供给部在设置于所述透过区域的状态下，在远离所述透过区域的位置处，向所述整流面的一侧与所述透过区域之间的空隙供给气体；以及

气体排出部，所述气体排出部在设置于所述透过区域的状态下，在远离所述透过区域的位置处，在与所述一侧隔着所述透过区域的另一侧，将存在于所述整流面与所述处理对象之间的空隙的气体排出到所述空隙外。

2.如权利要求1所述的激光处理装置整流装置，其特征在于，

所述整流部具有相对于所述透过区域周缘整体向外侧延伸的形状。

3.如权利要求1或2所述的激光处理装置整流装置，其特征在于，

所述整流部的所述整流面具有以所述透过区域为基准向所述气体排出部的外侧延伸的大小，所述气体排出部具有将气体从所述空隙抽吸的气体抽吸部。

4.一种激光处理装置，向具有板面的处理对象照射激光以进行处理，其特征在于，包括：

透过区域，所述透过区域供所述激光透过以向保持于所述激光处理装置的所述处理对象照射；

整流部，所述整流部具有整流面，该整流面从所述透过区域的端部侧，与所述处理对象空开间隔而沿所述处理对象的板面向所述透过区域外侧延伸；

气体供给部，所述气体供给部在远离所述透过区域的位置处，向所述整流面的一侧与所述透过区域之间的空隙供给气体；以及

气体排出部，所述气体排出部在远离所述透过区域的位置处，在与所述一侧隔着所述透过区域的另一侧，将存在于所述整流面与所述处理对象之间的空隙的气体排出到所述空隙外。

5.如权利要求4所述的激光处理装置，其特征在于，

所述激光在所述处理对象上形成线光束形状，且所述透过区域与所述线光束形状的短轴方向、长轴方向相对应，形成分别具有短轴和长轴的长条形，

所述整流部的所述整流面在所述透过区域的短轴侧两侧和长轴侧两侧，向所述透过区域的外侧延伸。

6.如权利要求4或5所述的激光处理装置，其特征在于，

所述整流面在所述透过区域的长轴端部侧，从激光的长轴端部沿长轴方向朝外侧延伸20mm以上。

7.如权利要求4～6中任一项所述的激光处理装置，其特征在于，

所述气体供给部和所述气体排出部设置成通过气体的供给及排出所产生的气流将照射区域覆盖，在所述照射区域中，将所述激光向所述处理对象照射。

8.如权利要求7所述的激光处理装置，其特征在于，

所述激光在所述处理对象上形成线光束形状，且所述透过区域与所述线光束形状的短轴方向、长轴方向相对应，形成分别具有短轴和长轴的长条形，

所述气体供给部和所述气体排出部隔着所述透过区域而分别在超过照射面上的激光的长轴长度两端的长度范围内进行气体供给和气体排出。

9.如权利要求4～8中任一项所述的激光处理装置，其特征在于，

以所述透过区域为基准，在所述一侧，所述整流部的所述整流面向所述气体供给部的气体供给位置的外侧进一步延伸，在所述另一侧，所述整流部的所述整流面延伸至所述气体排出部。

10.如权利要求4～9中任一项所述的激光处理装置，其特征在于，

所述整流部的所述整流面以所述透过区域为基准向所述气体排出部的气体排出位置的外侧延伸，所述气体排出部具有将气体从所述空隙抽吸的气体抽吸部。