[发明专利]准分子激光装置有效
申请号: | 201680063144.9 | 申请日: | 2016-11-08 |
公开(公告)号: | CN108352674B | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 藤卷洋介;对马弘朗;池田宏幸;若林理 | 申请(专利权)人: | 极光先进雷射株式会社 |
主分类号: | H01S3/225 | 分类号: | H01S3/225;H01S3/036;H01S3/134 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 黄纶伟;于英慧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 准分子激光 装置 | ||
1.一种准分子激光装置,其具有:
光谐振器;
腔室,其包含一对放电电极,配置在所述光谐振器之间,收容激光气体;
电源,其接收触发信号,根据所述触发信号对所述一对放电电极施加脉冲状的电压;
能量监视器,其计测从所述光谐振器输出的脉冲激光的脉冲能量;
卤素气体分压调节部,其构成为能够执行所述腔室内收容的激光气体的一部分的排气和向所述腔室内的激光气体的供给;以及
控制部,其取得所述能量监视器对脉冲能量的计测结果,根据所述脉冲能量的计测结果检测能量降低,根据所述能量降低的检测结果对所述卤素气体分压调节部进行控制,由此,进行降低所述腔室内的卤素气体分压和提高所述腔室内的气压这双方。
2.根据权利要求1所述的准分子激光装置,其中,
所述控制部还进行提高对所述一对放电电极施加的脉冲状的电压的设定范围。
3.根据权利要求1所述的准分子激光装置,其中,
所述控制部按照每个脉冲对从所述光谐振器输出的脉冲激光的脉冲能量和规定的值进行比较,根据该比较的结果检测所述能量降低。
4.根据权利要求1所述的准分子激光装置,其中,
所述控制部按照规定的脉冲数计算从所述光谐振器输出的脉冲激光的脉冲能量的平均值和标准偏差,根据所述标准偏差相对于所述平均值的比检测所述能量降低。
5.根据权利要求1所述的准分子激光装置,其中,
所述控制部按照规定的脉冲数计算从所述光谐振器输出的脉冲激光的累计能量,根据所述累计能量相对于目标累计能量的比检测所述能量降低。
6.一种准分子激光装置,其具有:
第1光谐振器;
第1腔室,其包含一对第1放电电极,配置在所述第1光谐振器之间,收容激光气体;
第1电源,其接收第1触发信号,根据所述第1触发信号对所述一对第1放电电极施加脉冲状的电压;
第1能量监视器,其计测从所述第1光谐振器输出的第1脉冲激光的第1脉冲能量;
第2光谐振器,所述第1脉冲激光入射到该第2光谐振器;
第2腔室,其包含一对第2放电电极,配置在所述第2光谐振器之间,收容激光气体;
第2电源,其接收第2触发信号,根据所述第2触发信号对所述一对第2放电电极施加脉冲状的电压;
第2能量监视器,其计测从所述第2光谐振器输出的第2脉冲激光的第2脉冲能量;
卤素气体分压调节部,其构成为能够执行所述第1腔室内收容的激光气体的一部分的排气、向所述第1腔室内的激光气体的供给、所述第2腔室内收容的激光气体的一部分的排气和向所述第2腔室内的激光气体的供给;以及
控制部,其根据所述第1能量监视器对所述第1脉冲能量的计测结果检测所述第1腔室的能量降低,根据所述第1腔室的能量降低的检测结果对所述卤素气体分压调节部进行控制,由此,进行降低所述第1腔室内的卤素气体分压和提高所述第1腔室内的气压这双方,根据所述第2能量监视器对所述第2脉冲能量的计测结果检测所述第2腔室的能量降低,根据所述第2腔室的能量降低的检测结果对所述卤素气体分压调节部进行控制,由此,进行降低所述第2腔室内的卤素气体分压和提高所述第2腔室内的气压这双方。
7.根据权利要求6所述的准分子激光装置,其中,
所述控制部根据所述第1能量监视器对所述第1脉冲能量的计测结果检测所述第1腔室的能量降低的第1频度,判定所述第1频度是否为第1规定值以上,
根据所述第2能量监视器对所述第2脉冲能量的计测结果检测所述第2腔室的能量降低的第2频度,判定所述第2频度是否为第2规定值以上。
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