[发明专利]二氧化硅合成

权利要求书

1.一种用于制备二氧化硅的方法，所述方法包括：

使硅酸溶液与胺反应，以使所述二氧化硅从水性溶剂体系中沉淀；和

通过在与反应混合物的pH相比降低的pH下的水性溶剂体系中处理所述二氧化硅来移除与所述沉淀的二氧化硅结合的所述胺的至少一部分。

2.权利要求1所述的方法，其中使所述二氧化硅沉淀的反应的pH在pH 9至pH 5之间。

3.权利要求1所述的方法，其中使所述二氧化硅沉淀的反应的pH在pH 7.5至pH 6.5之间。

4.权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述通过在与反应混合物的pH相比降低的pH下的水性溶剂体系中处理所述二氧化硅的步骤通过以下方式进行：降低所述反应混合物水性溶剂体系的pH；并且之后从所述反应混合物水性溶剂体系中移除所述二氧化硅。

5.权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述通过在与反应混合物的pH相比降低的pH下的水性溶剂体系中处理所述二氧化硅的步骤通过以下方式进行：从所述反应混合物水性溶剂体系中移除所述二氧化硅；并且之后用pH低于二氧化硅形成反应的pH的水性溶剂处理所述二氧化硅；并且随后从所述溶液中移除所述二氧化硅。

6.权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述硅酸由下列各项中的至少一项制备：硅酸钠、原硅酸四乙酯、烷氧基硅烷、二醇改性的硅烷、硅的有机配合物、二氧化硅溶胶、稻壳、水泥窑粉尘、来自拆建的含二氧化硅废料、炼钢炉渣和含有二氧化硅的残余燃烧废料。

7.任一项前述权利要求所述的方法，其中所述移除与所述沉淀的二氧化硅结合的所述胺的至少一部分的步骤通过使用选自由下列各项组成的组中的酸完成：HCl、H₂SO₄、HNO₃、HBr、HF、H₃PO₄、H₃BO₃、乙酸、甲酸、柠檬酸以及它们的混合物。

8.任一项前述权利要求所述的方法，其中将基本上全部的所述胺从所述二氧化硅中移除。

9.任一项前述权利要求所述的方法，其中所述移除与所述沉淀的二氧化硅结合的所述胺的至少一部分的步骤在pH 8至pH 1的pH下进行。

10.权利要求9所述的方法，其中所述移除与所述沉淀的二氧化硅结合的所述胺的至少一部分的步骤在pH 6至pH 1的pH下进行。

11.任一项前述权利要求所述的方法，其中所采用的胺是伯胺、仲胺或叔胺，或所述胺的酸式盐，并且在氮上存在至少一个H。

12.权利要求11所述的方法，其中所采用的胺或胺盐具有至少两个胺官能团。

13.权利要求12所述的方法，其中所述胺选自由下列各项组成的组：TETA(三亚乙基四胺)、PEHA(五亚乙基六胺)、聚(乙烯亚胺)(PEI)、聚(烯丙基胺)(PAA)、双(3-氨基丙基)胺、双(3-二甲基氨基丙基)胺、亚精胺和精胺。

14.任一项前述权利要求所述的方法，所述方法还包括将所述沉淀的二氧化硅收集，洗涤，并且将其干燥。

15.任一项前述权利要求所述的方法，其中所述二氧化硅的制备以间歇过程运行。

16.权利要求1至14中任一项所述的方法，其中所述二氧化硅的制备以连续过程运行。