[发明专利]测量用于基片的气氛输送和存储的运输箱的污染物的方法和系统

说明书

本发明涉及一种测量用于基片(3)的气氛输送和存储的运输箱(2)的污染物的方法，其中运输箱(2)内的至少一种气态物质的浓度由测量装置测量，所述测量装置包括至少一个气体分析仪(5，5b)和将所述至少一个气体分析仪(5，5b)连接到接口(7)的测量管线(6)，接口(7)使测量管线(6)与至少一个运输箱(2)的内部气氛连通，其特征在于，含水蒸气的气流被供给到测量装置。本发明还涉及一种测量用于基片的气氛输送和存储的运输箱的污染物的系统。

技术领域

本发明涉及一种测量用于基片的气氛输送和存储的运输箱的污染物的方法，所述基片例如半导体晶圆或光掩膜。本发明还涉及一种测量运输箱的污染物的系统。

背景技术

在半导体制造工业中，用于基片(例如半导体晶圆或光掩膜)的气氛输送和存储的箱体限定处于大气压下的密闭容积，所述密闭容积与使用环境隔离以用于从一件设施到另一件设施输送和存储一个或多个基片或用于在两个制造步骤之间存储基片。

特别地，在用于运输和存储FOUP(Front Opening Unified Pod前开式晶圆输送盒)型和FOSB(Front Opening Shipping Box前开式装运箱)型的侧开式或SMIF Pod(Standard Mechanical Interface Pod标准机械接口盒)型的底开式晶圆的标准化箱体、“开放盒”式箱体和用于运输和存储RSP(Reticle SMIF Pod光罩输送盒)型的光掩膜的标准箱体之间做出区分。

由诸如聚碳酸酯之类的塑料制成的这些箱体可能被诸如HF、HCl、NH 3和PGMEA气体之类的制造过程气体污染，这些气体特别是由已经经历了先前制造操作的半导体晶圆释放。

释放的气体会吸附在箱体的内表面上，然后扩散到聚合物中，导致聚合物中污染物分子的聚集。这些污染物分子随后可以被解吸，然后被吸附到在这些箱体中所存储的基片上，并且可选地与表面发生化学反应，这会在基片表面上产生缺陷。

气态氢氟酸特别是一种特别影响电子芯片的制造产量的化合物。具体而言，该分子可能在半导体晶圆上产生缺陷。通常以晶体形式出现这些缺陷可能是芯片故障的原因。

目前用于测量运输箱中可能存在的污染物气态物质的一种方法是通过在去离子水中鼓泡而进行取样。所述取样通过离子色谱进行分析。这种操作时间很长，平均持续两个小时，只能在生产离线时进行。

在文献EP 1 703 547中描述了另一种已知的方法。通过与运输箱的内部气氛连通设置的有效外部分析装置来监测运输箱的内部气氛。由于这种布置，可以在生产期间实时分析运输箱中所含有的污染物气体的痕迹。

这种对基片运输箱的污染物的测量应该迅捷地实施，以免使生产中断。但是，当在运输箱的内部气氛中测量到大量污染物质时，将箱体与分析装置连接的测量管线可能被严重地污染。于是在任何新的箱体监测之前有必要对该测量管线进行净化以避免扭曲后续的测量。

然而，在检测到污染气态物质后对测量管线进行净化可能时间会很长。这是因为氢氟酸由于分子的极性特别地粘附在壁上。这种现象可能因此增加两次连续测量之间的等待时间，以使氢氟酸的浓度回到对下一次测量的影响可以忽略不计的较低水平。而且，在测量期间，在壁上对氢氟酸的吸收可能阻止分析装置检测到氢氟酸。

发明内容

本发明的目的之一是提出一种可以减少两次测量之间的等待时间的方法和系统。本发明的另一目的是帮助测量运输箱中所存在的气态污染物质。

为此目的，本发明的一个主题是用于测量基片的气氛输送和存储的运输箱的污染物的方法，其中通过测量装置测量输送箱内的至少一种气态物质的浓度，所述测量装置包括至少一个气体分析仪和将所述至少一个气体分析仪连接到接口的测量管线，所述接口将所述测量管线与至少一个运输箱的内部气氛连通，其中，将含水蒸气的气流供给到测量装置。