[发明专利]曝光装置、曝光系统、基板处理方法、以及元件制造装置

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，其将可挠性长条状薄片基板沿长边方向进行搬送，并于所述薄片基板上曝光电子元件用图案；且具备：

标记检测部，其检测形成于所述薄片基板上的多个标记的标记位置信息；

第1图案曝光部，其为于应形成所述电子元件的所述薄片基板上的元件形成区域曝光所述图案，而将与所述图案的设计信息对应的能量射线根据所述标记位置信息进行位置调整后进行投射；及

输出部，其为制作与应曝光于所述元件形成区域内的所述图案对应的遮罩图案，而输出与投射至所述元件形成区域的所述能量射线的所述位置调整相关的调整信息及所述标记位置信息中的至少一者。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，其具备第2图案曝光部，

该第2图案曝光部使用根据所述输出部所输出的所述调整信息及所述标记位置信息中的至少一者而制作出的所述遮罩图案，向所述元件形成区域投射与所述遮罩图案的像相应的能量射线。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2图案曝光部根据所述标记位置信息而使所要投射的所述遮罩图案的像变形。

4.如权利要求2或3所述的曝光装置，其特征在于，

所述第2图案曝光部当形成有所述遮罩图案的遮罩的制作完成时，开始通过与所述遮罩图案的像对应的能量射线而进行曝光；且

所述第1图案曝光部于开始通过所述第2图案曝光部进行所述遮罩图案的像的曝光之前，暂停通过与所述图案的设计信息对应的能量射线而进行的曝光。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1图案曝光部于所述标记检测部所检测出的所述标记位置信息的倾向超出容许范围而变化的情形时，再次开始通过与所述图案的设计信息对应的能量射线而进行曝光；且

所述第2图案曝光部于再次开始通过所述第1图案曝光部进行所述图案的曝光之前，暂停通过与所述遮罩图案的像对应的能量射线而进行的曝光。

6.如权利要求2至5中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于，其具备旋转筒，

该旋转筒具有沿与所述薄片基板的所述长边方向正交的宽度方向延伸的中心轴、及与所述中心轴相距固定半径的圆筒状的外周面，一面沿循所述外周面使所述薄片基板的一部分于所述长边方向弯曲而对其进行支承，一面以所述中心轴为中心旋转而搬送所述薄片基板，藉此搬送所述薄片基板；且

所述第1图案曝光部及所述第2图案曝光部向支承于所述旋转筒的所述外周面的所述薄片基板上投射所述能量射线。

7.如权利要求2至5中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于，其具备：

第1旋转筒，其具有沿与所述薄片基板的所述长边方向正交的宽度方向延伸的中心轴、及与所述中心轴相距固定半径的圆筒状的外周面，一面沿循所述外周面使所述薄片基板的一部分于所述长边方向弯曲而对其进行支承，一面以所述中心轴为中心旋转而搬送所述薄片基板，藉此搬送所述薄片基板；及

第2旋转筒，其设置于所述第1旋转筒的下游侧或上游侧，具有与所述第1旋转筒相同的构成；且

所述第1图案曝光部及所述第2图案曝光部中的一者向支承于所述第1旋转筒的所述外周面的所述薄片基板上投射所述能量射线，另一者向支承于所述第2旋转筒的所述外周面的所述薄片基板上投射所述能量射线。