[发明专利]光学反射膜及光学反射体在审
| 申请号： | 201680065958.6 | 申请日： | 2016-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN108351448A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 斋藤洋一 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/26 | 分类号： | G02B5/26;B32B7/02;G02B5/28 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 最上层 配置的 中间层 基材 低折射率层 高折射率层 光学反射膜 光学干涉膜 最下层 弹性模量 弹性模量比 光学反射体 纳米压痕法 交替地层 平均膜厚 折射率差 膜厚 | ||
1.一种光学反射膜，其在基材上具备将具有折射率差的高折射率层和低折射率层交替地层叠而形成的光学干涉膜，
将构成所述光学干涉膜的高折射率层和低折射率层中对于所述基材最接近地配置的层作为最下层、将距所述基材最远地配置的层作为最上层、将在所述最下层与所述最上层之间所配置的各层作为中间层的情况下，通过纳米压痕法所测定的所述中间层的平均弹性模量比所述最上层的弹性模量大2GPa以上，
所述最上层的膜厚为所述中间层的平均膜厚的1.2倍～7倍。
2.根据权利要求1所述的光学反射膜，其中，
通过纳米压痕法所测定的所述中间层的平均弹性模量比所述最下层的弹性模量大2GPa以上，
通过纳米压痕法所测定的所述最下层的弹性模量比所述最上层的弹性模量大。
3.根据权利要求1或2所述的光学反射膜，其中，通过纳米压痕法所测定的所述最上层的弹性模量为8GPa以上、15GPa以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学反射膜，其特征在于，所述最下层的膜厚为所述中间层的平均膜厚的1.2倍～7倍。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学反射膜，其中，
所述高折射率层及所述低折射率层含有无机氧化物粒子，
所述最下层及所述最上层中的至少一者中含有乳液树脂。
6.根据权利要求5所述的光学反射膜，其中，所述乳液树脂的平均粒径为60nm以下。
7.一种光学反射体，其在基体的至少一面设置有根据权利要求1～6中任一项所述的光学反射膜。
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