[发明专利]光学反射膜及光学反射体在审
申请号: | 201680065958.6 | 申请日: | 2016-10-06 |
公开(公告)号: | CN108351448A | 公开(公告)日: | 2018-07-31 |
发明(设计)人: | 斋藤洋一 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达株式会社 |
主分类号: | G02B5/26 | 分类号: | G02B5/26;B32B7/02;G02B5/28 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 贾成功 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 最上层 配置的 中间层 基材 低折射率层 高折射率层 光学反射膜 光学干涉膜 最下层 弹性模量 弹性模量比 光学反射体 纳米压痕法 交替地层 平均膜厚 折射率差 膜厚 | ||
本发明为光学反射膜,其在基材上具有将具有折射率差的高折射率层和低折射率层交替地层叠而形成的光学干涉膜,将构成上述光学干涉膜的高折射率层和低折射率层中相对于上述基材最接近地配置的层作为最下层,将最远离上述基材所配置的层作为最上层,将在上述最下层与上述最上层之间所配置的各层作为中间层的情况下,通过纳米压痕法所测定的上述中间层的平均弹性模量比上述最上层的弹性模量大2GPa以上,上述最上层的膜厚为上述中间层的平均膜厚的1.2倍~7倍。
技术领域
本发明涉及光学反射膜及光学反射体。
背景技术
近年来,为了减轻对冷气设备施加的负担,对安装于建筑物、车辆的窗玻璃以阻断太阳光的热线的透过的红外遮蔽膜的要求在高涨。作为遮蔽红外线的构成之一,已知在基板上具有将高折射率层和低折射率层交替地层叠的光学干涉膜的光学反射膜。
作为这样的光学反射膜,已知采用使用了含有水溶性高分子和金属氧化物粒子的水系的涂布液的湿式涂布法在基材上形成高折射率层和低折射率层而成的构成(参照下述专利文献1)。
另外,在这样的光学反射膜中,为了防止与薄膜化相伴的卷曲的发生,公开了如下构成:与基材相接地设置的光学干涉膜的最下层包含金属氧化物粒子和乳液树脂,并且最下层的厚度设为最下层以外的层的平均厚度的1.2~8倍(参照下述专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2013/054912号
专利文献2:国际公开第2013/058141号
发明内容
发明要解决的课题
但是,对于以上这样的构成的红外遮蔽膜而言,由于长期的使用中含水、热引起的膨胀收缩的反复,存在着在光学干涉膜中产生裂纹、其导致的剥离这样的耐候性的问题。
因此,本发明的目的在于提供防止在长期的使用中的光学干涉膜中产生裂纹、剥离、耐候性优异的光学反射膜和光反射体。
用于解决课题的手段
用于实现这样的目的的本发明为光学反射膜,其在基材上具有将具有折射率差的高折射率层和低折射率层交替地层叠而形成的光学干涉膜,将构成所述光学干涉膜的高折射率层和低折射率层中相对于所述基材最接近地配置的层作为最下层,将距所述基材最远地配置的层作为最上层,将在所述最下层与所述最上层之间所配置的各层作为中间层的情况下,通过纳米压痕法所测定的所述中间层的平均弹性模量比所述最上层的弹性模量大2GPa以上,所述最上层的膜厚为所述中间层的平均膜厚的1.2倍~7倍。另外,本发明为在基体的至少一面设置这样的光学反射膜而成的光学反射体。
发明的效果
根据以上这样的构成的本发明,能够提供如以下的实施例中说明那样能够防止长期的使用中的光学干涉膜的裂纹、剥离的发生、可实现耐候性的提高的光学反射膜和光学反射体。
附图说明
图1为用于说明实施方式的光学反射膜的构成的截面示意图。
图2为用于说明实施方式的光学反射体的构成的截面示意图。
具体实施方式
《光学反射膜》
以下基于附图对本发明的实施方式详细地说明。图1为用于说明实施方式的光学反射膜的构成的截面示意图。
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